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J-GLOBAL ID：201402235905167641   整理番号：14A1209952

ナイキスト配列法における干渉指数を用いた超精密ステージの機構と制御の統合設計の提案

Proposal of integrated design of mechanism and control for high-precision stage by interaction index on Direct Nyquist Array method

著者 (5件)： 大西亘 (東大) ,  藤本博志 (東大) ,  坂田晃一 (ニコン) ,  鈴木一弘 (ニコン) ,  佐伯和明 (ニコン)
資料名： 電気学会メカトロニクス制御研究会資料  (電気学会研究会資料)
巻： MEC-14  号： 148-158  ページ： 1-6  発行年： 2014年09月01日 
JST資料番号： F1209A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 超精密ステージは,重心位置と,回転運動を拘束する拘束点と,並進方向の推力点が一致しない場合,並進運動と回転運動の軸間干渉が生じる。本論文では,超精密ステージの精密なモデル化と,推力点を変更できるステージ構造を提案した。また,ナイキスイト配列法と干渉指数を用いて,推力点の最適な配置を導出した。これによって,相互干渉のうち片方を機構的に軽減することができる。さらに,前置補償器の低次元化を行った。これにより,制御系全体の次数が低下し,設計・実装が容易となる。

シソーラス用語： Nyquist線図 ,  *位置決め装置 ,  設計 ,  デカップリング ,  精度 ,  回転 ,  並進 ,  位置 ,  モデリング ,  最適設計 ,  補償装置 ,  次元縮小 ,  多変数系 ,  伝達関数 ,  フィードバック制御 ,  *X-Yステージ ,  超精密 ,  重心位置
準シソーラス用語： 統合設計 ,  回転運動 ,  並進運動 ,  前置補償器 ,  低次元化

分類 (1件)： 運動機構  (QB01080K)

引用文献 (10件)：

• H. Butler, “Position Control in Lithographic Equipment,” IEEE Control Systems Magazine, vol. 31, no. 5, pp. 28-47, 2011.
• S. Ozawa, “The Current Lithography Technologies of the LCD Exposure System,” IEICE Trans. C, vol. J84-C, no. 12, pp. 1227-1231, 2001. (in Japanese)
• T. Oomen, R. van Herpen, S. Quist, M. van de Wal, O. Bosgra, and M. Steinbuch, “Connecting System Identification and Robust Control for Next-Generation Motion Control of a Wafer Stage,” IEEE Trans. Control Systems Technology, vol. 22, no. 1, pp. 102-118, 2014.
• P. Yang, B. Alamo, and G. Andeen, “Control design for a 6 DOF e-beam lithography stage,” American Control Conference, vol. 3, pp. 2255-2260, 2001.
• W. Ohnishi, H. Fujimoto, K. Sakata, K. Suzuki, and K. Saiki, “Design and Control of 6-DOF High-Precision Scan Stage with Gravity Canceller,” American Control Conference, pp. 997-1002, 2014.

タイトルに関連する用語 (6件)： 干渉 ,  指数 ,  超精密 ,  ステージ ,  統合設計 ,  提案