基板の再利用方法及び基板洗浄装置

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：志賀正武 , 鈴木三義 , 伏見俊介
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-106985
公開番号（公開出願番号）：特開2014-227311
出願日： 2013年05月21日
公開日（公表日）： 2014年12月08日
要約：

【課題】CNT剥離後の基板に対して、その基板表面上に残存する残渣を簡便な方法で除去できるとともに、新たなCNT合成に再生利用することが可能な基板の再利用方法を提供する。【解決手段】平滑な基板上に触媒金属からなる触媒層を成膜した基板を使用してCNTを合成する工程と、その基板表面からCNTを剥離する工程と、を経た基板を再利用する方法であって、上記工程後の基板を高温炉2内に搬入する工程と、高温炉2内に酸素ガスを含む第1の洗浄ガスを導入した後、基板を加熱して基板表面上の炭素を含む化合物を除去する工程と、高温炉2内に塩素系ガスを含む第2の洗浄ガスを導入した後、基板を加熱して基板表面上の金属を含む化合物を除去する工程と、を含む、基板の再利用方法を採用する。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

平滑な基板上に触媒金属からなる触媒層を成膜した基板を使用してCNTを合成する工程と、その基板表面からCNTを剥離する工程と、を経た基板を再利用する方法であって、上記工程後の基板を高温炉内に搬入する工程と、前記高温炉内に酸素ガスを含む第1の洗浄ガスを導入した後、前記基板を加熱して当該基板表面上の炭素を含む化合物を除去する工程と、前記高温炉内に塩素系ガスを含む第2の洗浄ガスを導入した後、前記基板を加熱して当該基板表面上の金属を含む化合物を除去する工程と、を含む、基板の再利用方法。

IPC (2件)：

C01B 31/02 , H01L 21/304

FI (2件)：

C01B31/02 101F , H01L21/304 645B

Fターム (50件)：

4G146AA11 , 4G146AB07 , 4G146AC01B , 4G146AD20 , 4G146AD22 , 4G146AD37 , 4G146BA12 , 4G146BA48 , 4G146BB22 , 4G146BB23 , 4G146BC09 , 4G146BC25 , 4G146BC33B , 4G146BC37B , 4G146BC42 , 4G146BC44 , 4G146CA02 , 4G146CA03 , 4G146CA08 , 4G146CB01 , 4G146CB11 , 4G146CB14 , 4G146CB15 , 4G146CB26 , 4G146CB29 , 4G146CB32 , 5F157AA28 , 5F157AA29 , 5F157AA30 , 5F157AA43 , 5F157AA46 , 5F157AA49 , 5F157AA66 , 5F157AB03 , 5F157AB13 , 5F157AB34 , 5F157AC01 , 5F157AC13 , 5F157BG02 , 5F157BG04 , 5F157BG13 , 5F157BG14 , 5F157BG15 , 5F157BG39 , 5F157BG76 , 5F157BG77 , 5F157BH18 , 5F157CA05 , 5F157DB45 , 5F157DC01

引用特許：

審査官引用 (7件)

カーボンナノチューブ剥離後のシリコン基板再利用方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2009-234260 出願人：ニッタ株式会社
使用済み基板の再生方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2008-004069 出願人：日立造船株式会社, ステラケミファ株式会社
配向性カーボンナノチューブ膜の転写方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2002-091582 出願人：三菱瓦斯化学株式会社

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