特許
J-GLOBAL ID：201403019143661294
粒子ビームシステム及びTEM試料を加工する方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
杉村 憲司
, 結城 仁美
, 神 紘一郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-216630
公開番号（公開出願番号）：特開2014-089956
出願日： 2013年10月17日
公開日（公表日）： 2014年05月15日
要約：
【課題】TEM試料の製造を容易にするシステムと方法を提供する。【解決手段】イオンビーム加工システム7の主軸9を含む領域にTEM試料101を取り付け、イオンビームを試料101へ向け、主軸9の方向から加工するステップと、試料101の回転軸89と主軸9の間の角度αを35°≦α≦55°として、回転軸89を中心に試料101を180°回転させるステップと、続いてイオンビームを試料101へ向け、主軸9の方向から加工するステップとを含み、試料101を加工するステップ中に試料101の材料をイオンビームにより除去する。さらに、電子顕微鏡システム3から電子ビームを試料101へ照射し、試料101から発する粒子を検出し、顕微鏡観察を行う。【選択図】図3
請求項（抜粋）：
粒子ビームシステムであって、
第1方向から対象物領域に入射する第1粒子ビームを発生するよう構成した第1粒子ビームコラムであり、前記第1粒子ビームはイオンビームである第1粒子ビームコラムと、
第2方向から前記対象物領域に入射する第2粒子ビームを発生するよう構成した第2粒子ビームコラムと、
対象物を前記対象物領域に取り付けるよう構成した対象物台であり、前記第1粒子ビームコラムに対して回転軸を中心に回転可能なシャフトを備えた対象物台と
を備え、以下の関係:
35°≦α≦55°
を満たし、αは前記第1方向と前記回転軸との間の第1角度を示す粒子ビームシステム。
IPC (4件)：
H01J 37/317
, H01J 37/20
, H01J 37/28
, H01J 37/26
H01J37/317 D
, H01J37/20 A
, H01J37/28 B
, H01J37/26
, H01J37/20 Z
, H01J37/20 D
5C001AA01
, 5C001AA05
, 5C001AA08
, 5C001CC04
, 5C001CC08
, 5C033SS02
, 5C033SS07
, 5C033SS10
, 5C033UU03
, 5C033UU10
, 5C034DD09
