特許
J-GLOBAL ID：200903044518678968

イオンビーム加工装置

発明者：
志知 広康

志知 広康 について

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富松 聡

富松 聡 について

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兼岡 則幸

兼岡 則幸 について

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梅村 馨

梅村 馨 について

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石黒 浩二

石黒 浩二 について


出願人/特許権者：
株式会社日立ハイテクノロジーズ

株式会社日立ハイテクノロジーズ について


代理人 (1件)： ポレール特許業務法人
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-072600
公開番号（公開出願番号）：特開2007-250371
出願日： 2006年03月16日
公開日（公表日）： 2007年09月27日
要約：
【課題】従来よりも加工時間を長くすることなくイオンビームによる試料の断面形成の加工精度を向上せしめ、試料を割断することなく微小試料を分離または分離準備する時間を短縮するイオンビーム加工技術を提供する。【解決手段】イオン源1からイオンビームを引き出す軸と、前記イオンビームを第1の試料ステージ13に載置された試料11に照射するイオンビーム照射軸とが傾斜関係にある構造とし、さらに、前記試料からイオンビーム加工により摘出した試料片303を載置する第2の試料ステージ24が、傾斜軸周りに回転することによりイオンビームの前記試料への照射角度を可変できる傾斜機能を持ち、前記イオンビーム照射軸に垂直な面に前記イオン源からイオンビームを引き出す軸を投影した線分が、前記第2の試料ステージの傾斜軸を前記イオンビーム照射軸に垂直な面に投影した線分と少なくとも略平行関係とすることが可能な構造であることを特徴とする。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
試料を保持する試料ステージと、 前記イオンビームを発生させるイオン源と、 前記試料ステージに保持される前記試料に対して前記イオンビームを照射するイオンビーム照射光学系とを有し、 前記試料ステージが、傾斜軸周りに回転することにより前記イオンビームの前記試料への照射角度を可変できる傾斜機能を持ち、 さらに、前記イオン源からイオンビームを引き出す軸と、イオンビームを試料に照射するイオンビーム照射軸とが傾斜関係にある構造であり、 前記イオンビーム照射軸に垂直な面に前記イオン源から前記イオンビームを引き出す軸を投影した線分が、前記試料ステージの傾斜軸を前記イオンビーム照射軸に垂直な面に投影した線分と少なくとも略平行関係とすることが可能な構造であることを特徴とするイオンビーム加工装置。
IPC (6件)：
H01J 37/20 ,  H01J 37/317 ,  H01J 37/28 ,  H01J 37/31 ,  G01N 1/28 ,  G01N 27/62
FI (7件)：
H01J37/20 A ,  H01J37/317 D ,  H01J37/28 B ,  H01J37/31 ,  H01J37/20 Z ,  G01N1/28 G ,  G01N27/62 E
Fターム (27件)：
2G041CA01 ,  2G041DA14 ,  2G041DA15 ,  2G041DA17 ,  2G041EA01 ,  2G041FA18 ,  2G041GA02 ,  2G052AA13 ,  2G052AC28 ,  2G052AD12 ,  2G052AD32 ,  2G052AD52 ,  2G052BA15 ,  2G052EC16 ,  2G052EC18 ,  2G052GA33 ,  2G052HC03 ,  2G052HC15 ,  2G052HC32 ,  2G052JA09 ,  5C001AA05 ,  5C001BB07 ,  5C001CC04 ,  5C001CC08 ,  5C033UU02 ,  5C034DD02 ,  5C034DD09
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (10件)
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