特許
J-GLOBAL ID：201403020227627367

感光性共重合体、その共重合体を含むフォトレジストおよび電子装置の製造方法

発明者：
オウェンディ・オンガイ

オウェンディ・オンガイ について

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ジェームズ・ダブリュー・サッカレー

ジェームズ・ダブリュー・サッカレー について

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ジェームズ・エフ・キャメロン

ジェームズ・エフ・キャメロン について


出願人/特許権者：
ローム・アンド・ハース・エレクトロニック・マテリアルズ,エル.エル.シー.

ローム・アンド・ハース・エレクトロニック・マテリアルズ,エル.エル.シー. について


代理人 (1件)： 特許業務法人センダ国際特許事務所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2014-026412
公開番号（公開出願番号）：特開2014-167109
出願日： 2014年02月14日
公開日（公表日）： 2014年09月11日
要約：
【課題】フォトレジストに好適な酸脱保護性モノマーとコモノマーの重合物を含有する共重合体を提供する。【解決手段】式(I)で表わされるモノマーとコモノマーの重合物を含有する共重合体。(Cは0〜5;RaはH、F、-CN、C1〜10アルキル、又はC1〜10フルオロアルキル;RX及びRyは各々独立して、非置換又は置換C1〜10直鎖又は分岐アルキル基、非置換又は置換C3〜10シクロアルキル基、非置換又は置換C3〜10アルケニルアルキル基等;ここでRX及びRyは任意に一緒に環を形成しても良い;RZはアセタール含有基又はケタール含有基で置換されたC6〜20アリール基等)【選択図】なし
請求項（抜粋）：
以下の式(I)
IPC (5件)：
C08F 220/36 ,  G03F 7/038 ,  G03F 7/039 ,  G03F 7/004 ,  H01L 21/027
FI (5件)：
C08F220/36 ,  G03F7/038 601 ,  G03F7/039 601 ,  G03F7/004 503A ,  H01L21/30 502R
Fターム (27件)：
2H125AF15P ,  2H125AF34P ,  2H125AH14 ,  2H125AH24 ,  2H125AH25 ,  2H125AJ14X ,  2H125AJ64X ,  2H125AJ65X ,  2H125AM66P ,  2H125AN51P ,  2H125BA01P ,  2H125BA32P ,  2H125CA12 ,  2H125CB12 ,  2H125CC01 ,  2H125CC03 ,  2H125CC15 ,  4J100AL08P ,  4J100BB17P ,  4J100BC58P ,  4J100CA03 ,  4J100DA01 ,  4J100DA04 ,  4J100DA28 ,  4J100FA03 ,  4J100FA19 ,  4J100JA38
引用特許：
審査官引用 (7件)
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