特許
J-GLOBAL ID：201403036388289090

レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法

発明者：
市川 幸司

市川 幸司 について

, 
山口 訓史

山口 訓史 について


出願人/特許権者：
住友化学株式会社

住友化学株式会社 について


代理人 (1件)： 新樹グローバル・アイピー特許業務法人
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-222159
公開番号（公開出願番号）：特開2014-112217
出願日： 2013年10月25日
公開日（公表日）： 2014年06月19日
要約：
【課題】優れたフォーカスマージン(DOF)で、レジストパターンを製造することができるレジスト組成物を提供することを目的とする。【解決手段】式(I)で表される構造単位及び式(a4)で表される構造単位を有し、かつ、酸不安定基を有さない樹脂、酸不安定基を有する樹脂、並びに、式(II)で表される酸発生剤を含有するレジスト組成物。[式中、R1及びR3は、水素原子又はメチル基;R2は脂環式炭化水素基;L1は2価の飽和炭化水素基又は単結合;R4はフッ素原子を有する飽和炭化水素基;Q1及びQ2は、それぞれフッ素原子又はペルフルオロアルキル基;L11は、*-CO-O-La-又は*-CH2-O-Lb-、*は-C(Q1)(Q2)-との結合手、La及びLbは、それぞれ2価の飽和炭化水素基;環W1は複素環;Z1+は有機カチオンを表す。]【選択図】なし
請求項（抜粋）：
式(I)で表される構造単位及び式(a4)で表される構造単位を有し、かつ、酸不安定基を有さない樹脂、 酸不安定基を有する樹脂、並びに、 式(II)で表される酸発生剤を含有するレジスト組成物。
IPC (6件)：
G03F 7/038 ,  G03F 7/004 ,  G03F 7/039 ,  H01L 21/027 ,  C08F 220/12 ,  C08F 220/24
FI (7件)：
G03F7/038 601 ,  G03F7/004 503A ,  G03F7/004 501 ,  G03F7/039 601 ,  H01L21/30 502R ,  C08F220/12 ,  C08F220/24
Fターム (56件)：
2H125AF17P ,  2H125AF18P ,  2H125AF38P ,  2H125AF45P ,  2H125AF70P ,  2H125AH04 ,  2H125AH12 ,  2H125AH14 ,  2H125AH15 ,  2H125AH17 ,  2H125AH19 ,  2H125AH23 ,  2H125AH24 ,  2H125AH29 ,  2H125AJ14X ,  2H125AJ64X ,  2H125AJ65X ,  2H125AJ68X ,  2H125AJ69X ,  2H125AM23P ,  2H125AM27P ,  2H125AN38P ,  2H125AN39P ,  2H125AN45P ,  2H125AN54P ,  2H125AN65P ,  2H125BA02P ,  2H125BA26P ,  2H125CA12 ,  2H125CB09 ,  2H125CC01 ,  2H125CC15 ,  2H125FA03 ,  2H125FA05 ,  4J100AL03Q ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100BA03Q ,  4J100BA11R ,  4J100BA15P ,  4J100BB17Q ,  4J100BB18Q ,  4J100BC01P ,  4J100BC03P ,  4J100BC04P ,  4J100BC08P ,  4J100BC09P ,  4J100BC53S ,  4J100BC83Q ,  4J100CA03 ,  4J100DA01 ,  4J100FA03 ,  4J100FA19 ,  4J100FA28 ,  4J100GC07 ,  4J100JA38
引用特許：
審査官引用 (8件)
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