特許
J-GLOBAL ID：201403046693245279
レーザ転写装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
大森 純一
, 折居 章
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-007182
公開番号（公開出願番号）：特開2014-137956
出願日： 2013年01月18日
公開日（公表日）： 2014年07月28日
要約：
【課題】高精細の発光層パターンを、高い生産性をもって製造することができるレーザ転写装置を提供する。【解決手段】本発明の一実施形態に係るレーザ転写装置は、真空雰囲気を維持可能な真空室と、ステージと、レーザ光学系と、制御部とを有する。上記ステージは、前記真空室内に設置され有機発光材料を支持する熱転写体が配置された基板を支持する。上記レーザ光学系は、光源と、分割素子と、走査機構とを有する。上記光源は、レーザ光を発光する。上記分割素子は、上記光源から発光されたレーザ光を複数の平行光に分割する。上記走査機構は、前記熱転写体の表面を前記分割素子により分割された複数のレーザ光により走査する。上記制御部は、前記複数のレーザ光を前記熱転写体の表面に照射させることにより、前記有機発光材料を所定パターンで前記基板上に転写させることが可能に構成される。【選択図】図4
請求項（抜粋）：
真空雰囲気を維持可能な真空室と、
前記真空室内に設置され有機発光材料を支持する熱転写体が配置された基板を支持するステージと、
レーザ光を発光する光源と、前記光源から発光されたレーザ光を複数の平行光に分割する分割素子と、前記熱転写体の表面を前記分割素子により分割された複数のレーザ光により走査する走査機構とを有し、前記ステージに対向して配置されるレーザ光学系と、
前記複数のレーザ光を前記熱転写体の表面に照射させることにより、前記有機発光材料を所定パターンで前記基板上に転写させることが可能な制御部と
を具備するレーザ転写装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (9件)：
3K107AA01
, 3K107BB01
, 3K107CC35
, 3K107CC45
, 3K107DD58
, 3K107GG09
, 3K107GG14
, 3K107GG28
, 3K107GG35
