特許
J-GLOBAL ID：201403049015501000
光学結像装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
杉村 憲司
, 澤田 達也
, 下地 健一
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-175295
公開番号（公開出願番号）：特開2012-256921
特許番号：特許第5543549号
出願日： 2012年08月07日
公開日（公表日）： 2012年12月27日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 投影パターンを有するマスクを収容するためのマスク装置と、
光学素子群を有する投影装置と、
基板を収容するための基板装置とを備える光学結像装置、特にはマイクロリソグラフィのための光学結像装置であって、
前記光学素子群が、前記基板に投影パターンを投影するように構成されており、
前記光学素子群が、少なくとも一時的に前記基板に隣接して配置された複数の光学素子、特に最終光学素子を備える光学結像装置において、
前記複数の光学素子の光学素子に関連付けられた熱分離のための遮蔽装置が設けられており、
該遮蔽装置が第1及び第2の層を備え、
該第1層は、スペーサ体が前記光学素子の面と該第2層を形成する第2層構成要素との間に形成する隙間により画定され、
該隙間に流体が充填されることを特徴とする光学結像装置。
IPC (4件)：
H01L 21/027 ( 200 6.01)
, G03F 7/20 ( 200 6.01)
, G02B 21/28 ( 200 6.01)
, G02B 21/00 ( 200 6.01)
H01L 21/30 515 D
, G03F 7/20 521
, G02B 21/28
, G02B 21/00
出願人引用 (7件)
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審査官引用 (7件)
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