特許
J-GLOBAL ID：201403054856851468
リソグラフィ装置及びリソグラフィ投影方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
稲葉 良幸
, 大貫 敏史
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-030533
公開番号（公開出願番号）：特開2012-175106
特許番号：特許第5638550号
出願日： 2012年02月15日
公開日（公表日）： 2012年09月10日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 リソグラフィ装置であって、
第1のパターニングデバイスを支持する第1の支持体及び第2のパターニングデバイスを支持する第2の支持体であって、該第1のパターニングデバイス及び第2のパターニングデバイスが放射ビームの断面にパターンを与えてパターニングされた放射ビームを形成
することが可能な、第1及び第2の支持体と、
基板を保持する基板テーブルと、
前記パターニングされた放射ビームを前記基板のターゲット部分に投影する投影システムと、
を備え、
前記第1の支持体及び第2の支持体が、スキャン方向に、前記第1のパターニングデバイス又は第2のパターニングデバイスの少なくとも該スキャン方向の長さのスキャン距離にわたって移動可能であり、
前記第1の支持体及び第2の支持体が、前記スキャン方向と実質的に垂直な第2の方向に、前記第1のパターニングデバイス又は第2のパターニングデバイスの少なくとも該第2の方向の幅の距離にわたって移動可能であり、
前記第1の支持体及び第2の支持体は、前記第2の方向への移動によって前記投影システムに選択的に位置合わせされ、
前記第1及び第2の支持体の一方の前記スキャン方向への移動中、前記第1及び第2の支持体の他方は前記第2の方向に、続いて前記スキャン方向の逆並行方向に、そして前記第2の方向の逆方向に移動する、
リソグラフィ装置。
IPC (2件)：
H01L 21/027 ( 200 6.01)
, G03F 7/20 ( 200 6.01)
H01L 21/30 515 F
, G03F 7/20 521
出願人引用 (11件)
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特開昭61-226924
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特開昭62-198863
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露光装置及び露光方法
公報種別：公開公報
出願番号：特願平6-212438
出願人：株式会社ニコン
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審査官引用 (5件)
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