めっき膜の製造方法

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出願人/特許権者：
代理人 (3件)：伊藤進 , 長谷川靖 , 篠浦治
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-277026
公開番号（公開出願番号）：特開2014-118623
出願日： 2012年12月19日
公開日（公表日）： 2014年06月30日
要約：

【課題】樹脂基体10に密着性の高いめっき膜を成膜できる、めっき膜の製造方法を提供する。【解決手段】めっき膜の製造方法は、ポリプロピレンを主成分とし平均粒径が0.05〜1μmのゴム成分を含む樹脂基体10を準備する工程と、樹脂基体10を50〜90°Cのキシレンに5〜60分間、浸漬し膨潤する工程と、樹脂基体10を平均径が0.1〜100μmのオゾンの気泡を含みオゾン濃度が0.1〜2.0ppmで温度が15〜40°Cのオゾン水20に1〜60分間、浸漬する工程、又は、樹脂基体10に、波長が150〜300nmで強度が5〜100mW/cm2の紫外線を大気中で、1〜30分間照射する工程と、樹脂基体10にパラジウム触媒を付与する工程と、樹脂基体10に無電解めっき膜を成膜する工程と、を具備する。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

ポリプロピレンを主成分とし、平均粒径が0.05〜1μmのゴム成分を含む樹脂基体を準備する工程と、前記樹脂基体を、50〜90°Cのキシレンに、5〜60分間、浸漬し膨潤する工程と、前記樹脂基体を、平均径が0.1〜100μmのオゾンの気泡を含みオゾン濃度が0.1〜2.0ppmで、温度が15〜40°Cのオゾン水に、1〜60分間、浸漬する工程、又は、前記樹脂基体に、波長が150〜300nmで、強度が5〜100mW/cm2の紫外線を大気中で、1〜30分間照射する工程と、前記樹脂基体にパラジウム触媒を付与する工程と、前記樹脂基体に無電解めっき膜を成膜する工程と、を具備することを特徴とするめっき膜の製造方法。

IPC (1件)：

C23C 18/20

FI (1件)：

C23C18/20 Z

Fターム (10件)：

4K022AA13 , 4K022AA19 , 4K022AA42 , 4K022BA08 , 4K022BA14 , 4K022BA16 , 4K022CA02 , 4K022CA04 , 4K022CA06 , 4K022DA01

引用特許：

審査官引用 (11件)

特開昭54-003170
選択的無電解めっき層の成形方法。
公報種別：公開公報出願番号：特願2010-118757 出願人：株式会社関東学院大学表面工学研究所, 三共化成株式会社
無電解めっき方法及び金属張積層板の製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2011-022984 出願人：学校法人関東学院

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