特許
J-GLOBAL ID：201403080322168160
マスクブランクの製造方法および転写用マスクの製造方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
藤村 康夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2014-048489
公開番号（公開出願番号）：特開2014-209200
出願日： 2014年03月12日
公開日（公表日）： 2014年11月06日
要約：
【課題】薄膜の内部応力を小さくすることのできるマスクブランクの製造方法および転写用マスクの製造方法を提供する。【解決手段】透光性基板上に薄膜を備えるマスクブランクの製造方法であって、前記透光性基板は、水素を含有するガラス材料からなり、対向する1組の主表面71を有する透光性基板を準備する工程と、前記透光性基板の主表面71に、ケイ素又は金属の少なくとも一方を含有する材料からなる前記薄膜を形成する工程と、前記薄膜の表面に対して過熱水蒸気を当てることにより前記薄膜の内部応力を低減する過熱水蒸気処理工程とを有することを特徴とするマスクブランクの製造方法。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
透光性基板上に薄膜を備えるマスクブランクの製造方法であって、
前記透光性基板は、水素を含有するガラス材料からなり、対向する1組の主表面を有する透光性基板を準備する工程と、
前記透光性基板の主表面に、ケイ素又は金属の少なくとも一方を含有する材料からなる前記薄膜を形成する工程と、
前記薄膜の表面に対して過熱水蒸気を当てることにより前記薄膜の内部応力を低減する過熱水蒸気処理工程とを有する
ことを特徴とするマスクブランクの製造方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G03F1/60
, H01L21/30 502P
2H095BB37
, 2H095BC05
, 2H095BC26
, 2H095BC27
