特許
J-GLOBAL ID:201403083352577179
薬液層の形成方法および薬液層の形成装置
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (2件):
宮崎 昭夫
, 緒方 雅昭
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2013-005195
公開番号(公開出願番号):特開2014-136182
出願日: 2013年01月16日
公開日(公表日): 2014年07月28日
要約:
【課題】少ない溶媒量で効率よく綿菓子状の薬液を除去しながら薬液層を形成する。【解決手段】薬液を回転塗布することで基板表面に薬液層を形成する方法であって、薬液の回転塗布中に基板外部に排出される余剰の薬液が固形化し、綿菓子状の薬液が発生するとき、該綿菓子状の薬液が発生する領域に対して薬液除去溶剤を噴霧する薬液層の形成方法。【選択図】図1
請求項(抜粋):
薬液を回転塗布することで基板表面に薬液層を形成する方法であって、
薬液の回転塗布中に基板外部に排出される余剰の薬液が固形化し、綿菓子状の薬液が発生するとき、該綿菓子状の薬液が発生する領域に対して薬液除去溶剤を噴霧する薬液層の形成方法。
IPC (5件):
B05D 3/10
, B05C 11/10
, B05C 11/08
, B05D 1/40
, H01L 21/027
FI (5件):
B05D3/10 Z
, B05C11/10
, B05C11/08
, B05D1/40 A
, H01L21/30 564C
Fターム (11件):
4D075AC64
, 4D075BB13Z
, 4D075BB57Z
, 4D075BB69Z
, 4D075EA45
, 4F042AB00
, 4F042CC07
, 4F042CC10
, 4F042DF03
, 5F146JA05
, 5F146JA08
引用特許:
出願人引用 (6件)
-
基板裏面洗浄方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平7-307196
出願人:凸版印刷株式会社
-
処理方法及び処理装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平6-174797
出願人:東京エレクトロン株式会社, 東京エレクトロン九州株式会社
-
レジストの除去方法及び除去装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平3-314561
出願人:キヤノン株式会社
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審査官引用 (6件)
-
基板裏面洗浄方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平7-307196
出願人:凸版印刷株式会社
-
処理方法及び処理装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平6-174797
出願人:東京エレクトロン株式会社, 東京エレクトロン九州株式会社
-
レジストの除去方法及び除去装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平3-314561
出願人:キヤノン株式会社
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