特許
J-GLOBAL ID：201403095328485873

高純度セレブロシドの製造方法

発明者：
佐藤 康平

佐藤 康平 について

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木村 俊之

木村 俊之 について

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間 和彦

間 和彦 について


出願人/特許権者：
オルガノ株式会社

オルガノ株式会社 について

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独立行政法人農業・食品産業技術総合研究機構

独立行政法人農業・食品産業技術総合研究機構 について

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日本製粉株式会社

日本製粉株式会社 について


代理人 (2件)： 宮崎 昭夫 ,  緒方 雅昭
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-103928
公開番号（公開出願番号）：特開2014-224063
出願日： 2013年05月16日
公開日（公表日）： 2014年12月04日
要約：
【課題】高純度のセレブロシドまたはセレブロシド群を製造すると共に、製造コストを低減する製造法の提供。【解決手段】吸着剤としてODS-シリカゲルを充填した複数の単位充填塔を無端直列に接続した循環流路に対し、セレブロシド、第1および第2の成分を含有する原料液を通流することにより原料液からセレブロシドを分離・回収する、高純度セレブロシドの製造方法。第1工程では、第1、第2および第3の吸着帯域を分けて形成している系に対し、第2と第3の吸着帯域の間で系の循環を遮断しながら、第3の吸着帯域に原料液を供給すると共に第2の吸着帯域から高純度セレブロシドを回収する。第2工程では、原料液を供給することなく循環流路内に脱離剤を供給して循環流路内の流体を通流させながら第1および第3の吸着帯域のうち少なくとも一方の吸着帯域から成分の回収を行う。第1工程および第2工程を複数回、繰り返す高純度セレブロシドの製造方法。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
吸着剤としてODS-シリカゲルを充填した複数の単位充填塔を無端直列に接続し、内部を流体が循環可能または任意の位置で遮断可能に構成された循環流路に対し、(a)1成分以上のセレブロシド、(b)前記セレブロシドよりも前記ODS-シリカゲルに対する親和性が強い第1の成分、および(c)前記セレブロシドよりも前記ODS-シリカゲルに対する親和性が弱い第2の成分を含有する原料液を通流することにより、前記原料液からセレブロシドを分離・回収する、高純度セレブロシドの製造方法であって、 下記第1工程および第2工程を有するサイクルを複数回、繰り返すことを特徴とする高純度セレブロシドの製造方法。 第1工程;前記第1の成分が富化された第1の吸着帯域、前記セレブロシドが富化された第2の吸着帯域および前記第2の成分が富化された第3の吸着帯域を分けて形成している系に対し、前記第2と第3の吸着帯域の間で前記系の循環を遮断しながら、前記第3の吸着帯域に原料液を供給すると共に、前記第2の吸着帯域から高純度セレブロシドを回収する工程、 第2工程;原料液を供給することなく、前記循環流路内に脱離剤を供給して循環流路内の流体を通流させながら、前記第1および第3の吸着帯域のうち少なくとも一方の吸着帯域から成分の回収を行い、かつ前記循環流路内の流体の通流に伴う第1から第3の吸着帯域の移動に合わせて前記循環流路内の脱離剤の供給位置と前記成分の回収位置を順次、循環流の下流側に移動させる工程。
IPC (4件)：
C07H 3/02 ,  B01D 15/00 ,  B01J 20/34 ,  B01J 20/22
FI (6件)：
C07H3/02 ,  B01D15/00 101A ,  B01J20/34 G ,  B01D15/00 G ,  B01D15/00 K ,  B01J20/22 C
Fターム (17件)：
4C057AA11 ,  4C057BB02 ,  4C057DD01 ,  4C057JJ12 ,  4D017AA03 ,  4D017BA03 ,  4D017CA14 ,  4D017DA02 ,  4D017DB02 ,  4D017EA01 ,  4D017EB02 ,  4G066AA22C ,  4G066AB06D ,  4G066AB18B ,  4G066CA56 ,  4G066DA07 ,  4G066GA11
引用特許：
審査官引用 (8件)
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引用文献：
審査官引用 (9件)
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