特許
J-GLOBAL ID:201403099463943399
ウエハ回転装置及びウエハ回転方法
発明者:
,
出願人/特許権者:
,
代理人 (1件):
中塚 雅也
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2012-242437
公開番号(公開出願番号):特開2014-093388
出願日: 2012年11月02日
公開日(公表日): 2014年05月19日
要約:
【課題】 ウエハの処理ムラをなくすために、微小ゴミを発生させることなく、処理槽内でウエハを回転させることができるウエハ回転装置を提供する。 【解決手段】 処理液を収容し、処理液内にウエハを浸漬することができる処理液槽2と、 処理液槽2内で前記ウエハWの下部中間部分を保持し、ウエハの面に沿った方向に揺動可能に構成されているウエハ受台6と、処理液槽2内のウエハ受台6を挟むように配置され、ウエハ受台6に対し相対的に上下方向に移動することでウエハの下部両端部分を保持可能に構成されている1組のウエハガイド7と、ウエハWを、ウエハガイド7に保持させた状態でウエハ受台6を揺動させた後ウエハ受台6とウエハガイド7とを相対的に上下方向に移動させてウエハ受台6に戻すことで、ウエハ受台6におけるウエハWの支持部分を異ならせてウエハを回転させる。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
処理液を収容し、前記処理液内にウエハを浸漬することができる処理液槽と、
前記処理液槽内で前記ウエハの下部中間部分を保持し、ウエハの面に沿った方向に揺動可能に構成されているウエハ受台と、
前記処理液槽内の前記ウエハ受台を挟むように配置され、前記ウエハ受台に対し相対的に上下方向に移動することで前記ウエハの下部両端部分を保持可能に構成されている1組のウエハガイドと、
前記ウエハを、ウエハガイドに保持させた状態で前記ウエハ受台を揺動させた後前記ウエハ受台とウエハガイドとを相対的に上下方向に移動させて前記ウエハ受台に戻すことで、前記ウエハ受台におけるウエハの支持部分を異ならせて前記ウエハを回転させることを特徴とする、ウエハ回転装置。
IPC (1件):
FI (2件):
H01L21/304 642E
, H01L21/304 648Z
Fターム (9件):
5F157AB03
, 5F157AB13
, 5F157AB34
, 5F157BB02
, 5F157BB73
, 5F157CF06
, 5F157CF93
, 5F157DB02
, 5F157DB37
引用特許:
審査官引用 (8件)
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基板処理装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平10-300872
出願人:大日本スクリーン製造株式会社
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半導体基体の製造方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願2004-035544
出願人:キヤノン株式会社
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液中処理方法及び液中処理装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2003-350752
出願人:コマツ電子金属株式会社
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