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J-GLOBAL ID：201502239335304030   整理番号：15A0533036

オクタデシルトリクロロシラン自己集合単一層とプラズマの反応の赤外分光研究

Infrared spectroscopic study of the reactions between an octadecyltrichlorosilane self-assembled monolayer and plasma

著者 (8件)： SHINOHARA Masanori (Nagasaki Univ., Nagasaki, JPN) ,  MARUNO Naoki (Nagasaki Univ., Nagasaki, JPN) ,  YOSHIDA Yuta (Nagasaki Univ., Nagasaki, JPN) ,  TANIGUCHI Yujiro (Nagasaki Univ., Nagasaki, JPN) ,  ITO Kazuki (Nagasaki Univ., Nagasaki, JPN) ,  NAKANO Yamato (Nagasaki Univ., Nagasaki, JPN) ,  MATSUDA Yoshinobu (Nagasaki Univ., Nagasaki, JPN) ,  FUJIYAMA Hiroshi (Nagasaki Univ., Nagasaki, JPN)
資料名： Japanese Journal of Applied Physics  (Japanese Journal of Applied Physics)
巻： 54  号： 1S  ページ： 01AB04.1-01AB04.6  発行年： 2015年01月 
JST資料番号： G0520B  ISSN： 0021-4922  CODEN： JJAPB6  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： オクタデシルトリクロロシラン自己集合単一層(SAM)と水素プラズマおよび酸素プラズマとの反応を,多重内部反射配置における赤外吸収分光により調べた。SAMを水素プラズマに曝した場合,CH₃ピーク強度の減少速度は,CH₂ピーク強度のものよりも小さくなった。これは,水素プラズマ暴露の際に,SAMの水素化の中間状態としてCH₃成分が形成されることに起因している。酸素プラズマに暴露した際は,SAM内のCH₂とCH₃成分のピーク強度は同じ速度で減少した。プラズマ暴露の際に検出されたC=O成分は,膜酸化の中間状態を表している。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： *単分子層 ,  プラズマ ,  赤外分光法 ,  赤外吸収スペクトル ,  水素化 ,  *プラズマ化学反応
準シソーラス用語： *自己集合単一層

分類 (1件)： プラズマ一般  (BJ02010B)

物質索引 (1件)： オクタデシルトリクロロシラン

引用文献 (31件)：

• R. d’Agostino, P. Favia, C. Oehr, and M. R. Wertheimer, Plasma Processes Polym. 2, 7 (2005).
• Q. Wang, A. Göhlich, M. Ruß, P. Yang, and H. Vogt, Microelectron. Eng. 115, 26 (2014).
• M. Ratova, G. T. West, and P. J. Kelly, Vacuum 102, 48 (2014).
• H. Tsuda, Y. Takao, K. Eriguchi, and K. Ono, Jpn. J. Appl. Phys. 51, 08HC01 (2012).
• T. von Woedtke, S. Reuter, K. Masur, and K.-D. Weltmann, Phys. Rep. 530, 291 (2013).

タイトルに関連する用語 (5件)： オクタデシルトリクロロシラン ,  自己集合単一層 ,  プラズマ ,  赤外分光 ,  研究