特許
J-GLOBAL ID:201503001794456852

セキュア・デバイスを製造する方法およびセキュア・デバイス

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (3件): 小池 文雄 ,  上野 剛史 ,  太佐 種一
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2015-526708
公開番号(公開出願番号):特表2015-525979
出願日: 2013年08月08日
公開日(公表日): 2015年09月07日
要約:
【課題】物理的複製困難関数を有するセキュア・デバイス、およびそのようなセキュア・デバイスを製造する方法を提供する。【解決手段】このデバイスは、基板と、基板上に形成された少なくとも1つの高k/金属ゲート・デバイスとを含む。少なくとも1つの高k/金属ゲート・デバイスは、物理的複製困難関数を表す。場合によっては、少なくとも1つの高k/金属ゲート・デバイスを変動性増強にかけることができる。場合によっては、セキュア・デバイスは、少なくとも1つの高k/金属ゲート・デバイスの特性を測定するために測定回路を含むことができる。【選択図】図1
請求項(抜粋):
物理的複製困難関数を有するセキュア・デバイスを製造する方法であって、 前記セキュア・デバイス用の基板を用意するステップと、 少なくとも1つの高k/金属ゲート・デバイスを前記基板上に形成するステップであって、前記高k/金属ゲート・デバイスが前記物理的複製困難関数を表す、前記形成するステップとを含み、 前記形成するステップが、少なくとも1つの変動性増強を前記少なくとも1つの高k/金属ゲート・デバイスに適用するステップを含む、方法。
IPC (5件):
H01L 21/822 ,  H01L 27/04 ,  H04L 9/10 ,  H01L 21/823 ,  H01L 27/088
FI (3件):
H01L27/04 A ,  H04L9/00 621A ,  H01L27/08 102C
Fターム (32件):
5F038AZ08 ,  5F038BG02 ,  5F038DF05 ,  5F038DF10 ,  5F038EZ01 ,  5F038EZ02 ,  5F038EZ15 ,  5F038EZ17 ,  5F038EZ20 ,  5F048AB10 ,  5F048AC01 ,  5F048BA01 ,  5F048BA14 ,  5F048BA15 ,  5F048BB09 ,  5F048BB11 ,  5F048BB14 ,  5F048BC06 ,  5F048BD01 ,  5F048BF07 ,  5F048BF12 ,  5F048BF16 ,  5F048DA30 ,  5J104AA07 ,  5J104AA16 ,  5J104EA04 ,  5J104KA02 ,  5J104KA15 ,  5J104NA02 ,  5J104NA37 ,  5J104NA38 ,  5J104NA42
引用特許:
出願人引用 (6件)
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審査官引用 (6件)
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引用文献:
出願人引用 (1件)
  • アービターPUFで生成した固有IDの環境安定性の実チップ評価 Evaluation of Environmental Stability
審査官引用 (1件)
  • アービターPUFで生成した固有IDの環境安定性の実チップ評価 Evaluation of Environmental Stability

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