特許
J-GLOBAL ID:201503001794456852
セキュア・デバイスを製造する方法およびセキュア・デバイス
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (3件):
小池 文雄
, 上野 剛史
, 太佐 種一
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2015-526708
公開番号(公開出願番号):特表2015-525979
出願日: 2013年08月08日
公開日(公表日): 2015年09月07日
要約:
【課題】物理的複製困難関数を有するセキュア・デバイス、およびそのようなセキュア・デバイスを製造する方法を提供する。【解決手段】このデバイスは、基板と、基板上に形成された少なくとも1つの高k/金属ゲート・デバイスとを含む。少なくとも1つの高k/金属ゲート・デバイスは、物理的複製困難関数を表す。場合によっては、少なくとも1つの高k/金属ゲート・デバイスを変動性増強にかけることができる。場合によっては、セキュア・デバイスは、少なくとも1つの高k/金属ゲート・デバイスの特性を測定するために測定回路を含むことができる。【選択図】図1
請求項(抜粋):
物理的複製困難関数を有するセキュア・デバイスを製造する方法であって、
前記セキュア・デバイス用の基板を用意するステップと、
少なくとも1つの高k/金属ゲート・デバイスを前記基板上に形成するステップであって、前記高k/金属ゲート・デバイスが前記物理的複製困難関数を表す、前記形成するステップとを含み、
前記形成するステップが、少なくとも1つの変動性増強を前記少なくとも1つの高k/金属ゲート・デバイスに適用するステップを含む、方法。
IPC (5件):
H01L 21/822
, H01L 27/04
, H04L 9/10
, H01L 21/823
, H01L 27/088
FI (3件):
H01L27/04 A
, H04L9/00 621A
, H01L27/08 102C
Fターム (32件):
5F038AZ08
, 5F038BG02
, 5F038DF05
, 5F038DF10
, 5F038EZ01
, 5F038EZ02
, 5F038EZ15
, 5F038EZ17
, 5F038EZ20
, 5F048AB10
, 5F048AC01
, 5F048BA01
, 5F048BA14
, 5F048BA15
, 5F048BB09
, 5F048BB11
, 5F048BB14
, 5F048BC06
, 5F048BD01
, 5F048BF07
, 5F048BF12
, 5F048BF16
, 5F048DA30
, 5J104AA07
, 5J104AA16
, 5J104EA04
, 5J104KA02
, 5J104KA15
, 5J104NA02
, 5J104NA37
, 5J104NA38
, 5J104NA42
引用特許:
出願人引用 (6件)
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審査官引用 (6件)
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引用文献:
出願人引用 (1件)
-
アービターPUFで生成した固有IDの環境安定性の実チップ評価 Evaluation of Environmental Stability
審査官引用 (1件)
-
アービターPUFで生成した固有IDの環境安定性の実チップ評価 Evaluation of Environmental Stability
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