特許
J-GLOBAL ID：201503003028022444
マスクブランクス、ネガ型レジスト膜付きマスクブランクス、位相シフトマスク、およびそれを用いるパターン形成体の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
山下 昭彦
, 岸本 達人
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2015-103031
公開番号（公開出願番号）：特開2015-212826
出願日： 2015年05月20日
公開日（公表日）： 2015年11月26日
要約：
【課題】転写特性を優れたものとし、かつArFエキシマレーザ露光光照射耐性、及び洗浄耐性を高くすること、並びに位相シフトマスクにおける光半透過膜パターンの超音波洗浄によるパターン欠けを回避すること、及び位相シフトマスクにおける光半透過膜パターンの設計の自由度を高くすることのできるフォトマスクブランクスを提供する。【解決手段】ArFエキシマレーザ露光用ハーフトーン型位相シフトマスクを製造するためのマスクブランクス100であって、透明基板101と、透明基板上に形成されSiおよびNのみからなる光半透過膜102と、を有し、光半透過膜は、ArFエキシマレーザ露光光の波長における消衰係数が0.2〜0.45の範囲内、ArFエキシマレーザ露光波長における屈折率が2.3〜2.7の範囲内、ArFエキシマレーザ露光波長における光透過率が15%〜38%の範囲内、更に、膜厚が57nm〜67nmの範囲内である。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
ArFエキシマレーザ露光光が適用されるハーフトーン型の位相シフトマスクを製造するために用いられるマスクブランクスであって、
透明基板と、前記透明基板上に形成され、SiおよびNのみからなる光半透過膜と、を有し、
前記光半透過膜は、ArFエキシマレーザ露光光の波長における消衰係数が0.2〜0.45の範囲内であり、ArFエキシマレーザ露光光の波長における屈折率が2.3〜2.7の範囲内であり、ArFエキシマレーザ露光光の波長における光透過率が15%〜38%の範囲内であり、さらに、膜厚が57nm〜67nmの範囲内であることを特徴とするマスクブランクス。
IPC (4件)：
G03F 1/32
, G03F 1/54
, G03F 1/82
, H01L 21/318
G03F1/32
, G03F1/54
, G03F1/82
, H01L21/318 B
, H01L21/318 C
2H195BA02
, 2H195BB02
, 2H195BB03
, 2H195BB14
, 2H195BB20
, 2H195BB31
, 2H195BB35
, 2H195BB36
, 2H195BC05
, 2H195BC11
, 2H195BC24
, 5F058BA20
, 5F058BB07
, 5F058BC08
, 5F058BC11
, 5F058BD10
, 5F058BD15
, 5F058BF12
, 5F058BF14
, 5F058BF15
