特許
J-GLOBAL ID：201503007722932208
LED製造のためのPVD緩衝層
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
園田 吉隆
, 小林 義教
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2015-509115
公開番号（公開出願番号）：特表2015-524020
出願日： 2013年04月24日
公開日（公表日）： 2015年08月20日
要約：
物理的気相堆積(PVD)で形成された窒化アルミニウム緩衝層を備える窒化ガリウムベースの照明デバイスの製造を述べる。PVD AlN緩衝層に関するプロセス条件も述べる。PVD窒化アルミニウム緩衝層に関する基板前処理も述べる。一例では、基板の上に緩衝層を製造する方法が、基板の表面を前処理することを含む。また、この方法は、その後、窒素ベースのガスまたはプラズマを用いて、物理的気相堆積(PVD)チャンバ内に収容されたアルミニウム含有ターゲットから基板の表面上に窒化アルミニウム(AlN)層を反応性スパッタリングすることも含む。
請求項（抜粋）：
基板上に緩衝層を製造する方法であって、前記方法は、
基板の表面を前処理すること、およびその後、
窒素ベースのガスまたはプラズマを用いて、物理的気相堆積(PVD)チャンバ内に収容されたアルミニウム含有ターゲットから基板の表面上に窒化アルミニウム(AlN)層を反応性スパッタリングすること
を含む方法。
IPC (6件)：
C23C 14/34
, C23C 14/06
, C23C 14/02
, H01L 21/203
, H01L 21/205
, H01L 33/12
C23C14/34 R
, C23C14/06 A
, C23C14/02 Z
, H01L21/203 S
, H01L21/205
, H01L33/00 140
4K029AA06
, 4K029AA07
, 4K029AA24
, 4K029BA03
, 4K029BA58
, 4K029BB09
, 4K029BD01
, 4K029CA05
, 4K029CA06
, 4K029CA13
, 4K029DC03
, 4K029DC05
, 4K029DC34
, 4K029DC35
, 4K029DC40
, 4K029EA01
, 4K029EA08
, 4K029FA05
, 4K029GA01
, 4K029KA01
, 5F045AA04
, 5F045AA19
, 5F045AB09
, 5F045AB14
, 5F045CA10
, 5F045DA53
, 5F045EB08
, 5F103AA08
, 5F103DD01
, 5F103LL02
, 5F241AA42
, 5F241CA05
, 5F241CA40
, 5F241CA65
, 5F241CA67
, 5F241CA73
出願人引用 (7件)
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審査官引用 (7件)
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引用文献：
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