特許
J-GLOBAL ID：201503010739369893
パターン形成方法、電子デバイスの製造方法、及び、電子デバイス、並びに、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、及び、レジスト膜
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (4件)：
渡辺 望稔
, 三和 晴子
, 伊東 秀明
, 三橋 史生
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2014-037300
公開番号（公開出願番号）：特開2015-161823
出願日： 2014年02月27日
公開日（公表日）： 2015年09月07日
要約：
【課題】高感度及び高解像性を達成できるパターン形成方法、及び、これを用いた電子デバイスの製造方法、及び、電子デバイス、並びに、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、及び、これを用いたレジスト膜を提供する。【解決手段】下記(i)又は(ii)である感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物を用いて膜を形成する工程、この膜を露光する工程、及び、アルカリ現像液又は有機溶剤を含む現像液を用いて、この露光された膜の露光部を除去してパターンを形成する工程を有するパターン形成方法。(i)(A1)酸の作用により分解して極性基を生じる基を有する繰り返し単位、及び、活性光線又は放射線の照射によって脱離しない一価のヨウ素原子を有する部分構造を有する繰り返し単位を有する樹脂を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物(ii)(A2)酸の作用により分解して極性基を生じる基を有する繰り返し単位を有する樹脂、及び、(AD)一価のヨウ素原子を有する化合物を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物【選択図】なし
請求項（抜粋）：
下記(i)又は(ii)である感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物を用いて膜を形成する工程、該膜を露光する工程、及び、アルカリ現像液を用いて、該露光された膜の露光部を除去してパターンを形成する工程を有するパターン形成方法。
(i)(A1)酸の作用により分解して極性基を生じる基を有する繰り返し単位、及び、活性光線又は放射線の照射によって脱離しない一価のヨウ素原子を有する部分構造を有する繰り返し単位を有する樹脂を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物
(ii)(A2)酸の作用により分解して極性基を生じる基を有する繰り返し単位を有する樹脂、及び、(AD)一価のヨウ素原子を有する化合物を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物
IPC (3件)：
G03F 7/039
, G03F 7/038
, G03F 7/004
G03F7/039 601
, G03F7/038 601
, G03F7/004 501
2H125AE05P
, 2H125AF17P
, 2H125AF18P
, 2H125AF19P
, 2H125AF20P
, 2H125AF21P
, 2H125AF34P
, 2H125AF35P
, 2H125AF38P
, 2H125AF45P
, 2H125AF70P
, 2H125AH04
, 2H125AH05
, 2H125AH06
, 2H125AH12
, 2H125AH13
, 2H125AH14
, 2H125AH19
, 2H125AH21
, 2H125AH22
, 2H125AH23
, 2H125AH24
, 2H125AH29
, 2H125AJ04X
, 2H125AJ04Y
, 2H125AJ14X
, 2H125AJ14Y
, 2H125AJ42Y
, 2H125AJ43X
, 2H125AJ43Y
, 2H125AJ45Y
, 2H125AJ48X
, 2H125AJ48Y
, 2H125AJ52Y
, 2H125AJ63Y
, 2H125AJ64Y
, 2H125AJ65Y
, 2H125AJ68X
, 2H125AJ70X
, 2H125AJ70Y
, 2H125AM22P
, 2H125AM25P
, 2H125AM66P
, 2H125AM86P
, 2H125AM93P
, 2H125AN21P
, 2H125AN29P
, 2H125AN38P
, 2H125AN39P
, 2H125AN42P
, 2H125AN49P
, 2H125AN54P
, 2H125AN63P
, 2H125AN67P
, 2H125AN86P
, 2H125BA01P
, 2H125BA02P
, 2H125BA26P
, 2H125BA32P
, 2H125BA33P
, 2H125CA12
, 2H125CB12
, 2H125CC01
, 2H125CC03
, 2H125CC15
