特許
J-GLOBAL ID：201503012915205900
縦型成膜装置
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (2件)：
石川 英毅
, 田中 正男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2014-113615
公開番号（公開出願番号）：特開2015-227488
出願日： 2014年05月31日
公開日（公表日）： 2015年12月17日
要約：
【課題】床占有面積が小さく、かつ成膜能力の増大や、本来の成膜工程に親水前処理や後処理などの付加工程が付加されても床占有面積が大きくならない縦型成膜装置を提供する。【解決手段】ロール状に巻かれたフィルム基材に金属酸化物薄膜を連続的に形成するロール・ツー・ロールの縦型成膜装置1であって、真空に減圧された真空チャンバー15と、真空チャンバー15内に配置され、前記フィルム基材を重力と反対の方向に搬送する垂直搬送部と、真空チャンバー15内に配置され、搬送される前記フィルム基材に、少なくとも反応性ガス12と蒸気の金属原子13とを前記フィルム基材の表面であって金属酸化物薄膜が成膜される成膜部151に対して水平方向から噴出させる水平原料噴出部121,131とを備えたロール・ツー・ロールの縦型成膜装置1。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
ロール状に巻かれたフィルム基材に金属酸化物薄膜を連続的に形成するロール・ツー・ロールの縦型成膜装置であって、真空に減圧された真空チャンバーと、前記真空チャンバー内に配置され、前記フィルム基材を重力と反対の方向に搬送する垂直搬送部と、前記真空チャンバー内に配置され、搬送される前記フィルム基材に、少なくとも反応性ガスと蒸気の金属原子とを前記フィルム基材の表面であって金属酸化物薄膜が成膜される成膜部に対して水平方向から噴出させる水平原料噴出部とを備えたことを特徴とする縦型成膜装置。
IPC (6件)：
C23C 14/24
, C23C 14/56
, H05B 33/02
, H05B 33/10
, H01L 51/50
, H05B 33/28
C23C14/24 M
, C23C14/56 A
, H05B33/02
, H05B33/10
, H05B33/14 A
, H05B33/28
3K107AA01
, 3K107BB01
, 3K107BB02
, 3K107CC45
, 3K107DD16
, 3K107DD17
, 3K107DD22
, 3K107DD27
, 3K107DD46X
, 3K107DD46Y
, 3K107GG02
, 3K107GG32
, 3K107GG42
, 4K029AA11
, 4K029AA25
, 4K029BA49
, 4K029CA02
, 4K029DA03
, 4K029DA05
, 4K029DA06
, 4K029DA12
, 4K029JA10
, 4K029KA03
, 5G323AA03
出願人引用 (2件)
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特表昭58-500031
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薄膜形成装置
公報種別：公開公報
出願番号：特願2003-024692
出願人：富士電機ホールディングス株式会社
審査官引用 (8件)
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