特許
J-GLOBAL ID:201503067939734317

流体分離材料及びその製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 特許業務法人 信栄特許事務所
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2013-154759
公開番号(公開出願番号):特開2015-024363
出願日: 2013年07月25日
公開日(公表日): 2015年02月05日
要約:
【課題】高温下においても、分離したい流体以外の流体が透過して流体分離機能が低下してしまうことを防止することが可能な流体分離材料及びその製造方法を提供する。【解決手段】流体分離材料20は、CVD法により作製した多孔質シリカ基体21と、多孔質シリカ基体21上に形成されるシリカ分離膜23と、多孔質シリカ基体21とシリカ分離膜23との間に設けられ、少なくとも平均粒子径が100nm以上500nm以下であって、BET比表面積[m2/g]と平均粒子径[nm]の積が7000以下であるシリカ粒子を用いて形成された中間層22と、を備えている。【選択図】図1
請求項(抜粋):
CVD法により作製した多孔質シリカ基体と、 前記多孔質シリカ基体上に形成される流体分離能を有するシリカ分離膜と、 前記多孔質シリカ基体と前記シリカ分離膜との間に設けられ、少なくとも平均粒子径が100nm以上500nm以下であって、BET比表面積[m2/g]と平均粒子径[nm]の積が7000以下であるシリカ粒子を用いて形成された中間層と、 を備えている流体分離材料。
IPC (4件):
B01D 71/02 ,  C01B 33/12 ,  B01D 69/10 ,  B01D 69/12
FI (4件):
B01D71/02 500 ,  C01B33/12 C ,  B01D69/10 ,  B01D69/12
Fターム (37件):
4D006GA41 ,  4D006HA28 ,  4D006MA02 ,  4D006MA09 ,  4D006MA22 ,  4D006MA24 ,  4D006MA31 ,  4D006MB04 ,  4D006MB15 ,  4D006MC03X ,  4D006NA46 ,  4D006NA49 ,  4D006NA63 ,  4D006PA01 ,  4D006PB18 ,  4D006PB66 ,  4D006PC80 ,  4G072AA25 ,  4G072BB09 ,  4G072BB15 ,  4G072FF02 ,  4G072GG02 ,  4G072GG03 ,  4G072HH18 ,  4G072MM36 ,  4G072NN21 ,  4G072NN30 ,  4G072UU30 ,  5H026AA06 ,  5H026CX04 ,  5H026EE12 ,  5H026HH01 ,  5H026HH02 ,  5H027AA06 ,  5H027BA01 ,  5H027BA16 ,  5H027MM12
引用特許:
審査官引用 (8件)
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