特許
J-GLOBAL ID：201603009300205834
基板処理装置及びこれに用いられる液供給装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
杉谷 勉
, 戸高 弘幸
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-013123
公開番号（公開出願番号）：特開2013-153062
特許番号：特許第5917165号
出願日： 2012年01月25日
公開日（公表日）： 2013年08月08日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 基板に対して汚染用物質を塗布する基板処理装置において、
未処理の基板を供給するとともに、処理済の基板を収納する基板供給収納部と、
汚染用物質を分散した処理液を供給する液供給部と、
前記基板供給収納部から供給された基板に対して、前記液供給部から供給される処理液を塗布する塗布部と、
処理液が塗布された基板を熱処理する熱処理部と、
基板を洗浄する洗浄部と、
前記基板供給収納部と、前記塗布部と、前記熱処理部と、前記洗浄部との間で基板を搬送する搬送部と、
を備え、
基板の汚染度を測定する測定部と、
前記塗布部で塗布を行わせた後に、基板の汚染度を前記測定部で測定させる制御部と、をさらに備え、
前記制御部は、前記塗布部での塗布後における前記測定部での測定の結果、基板の汚染度が目標値と不一致である場合には、前記洗浄部で基板を洗浄させ、前記液供給部の処理液を調製させて、前記測定部による測定及び前記塗布部による塗布を行わせることを特徴とする基板処理装置。
IPC (1件)：
FI (2件)：
H01L 21/304 648 Z
, H01L 21/304 648 G
