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J-GLOBAL ID：201702210079077018   整理番号：17A1007025

レーザー照射を用いるレジスト除去現象の分析

Analysis of Resist Removal Phenomenon Using Laser Irradiation

著者 (9件)： Kamimura Tomosumi (Department of Electronics, Information and Communication Engineering, Osaka Institute of Technology) ,  Kuramae Hirouki (Department of Robotics, Osaka Institute of Technology) ,  Yamashiro Takayuki (Department of Electronics, Information and Communication Engineering, Osaka Institute of Technology) ,  Nuno Kosuke (Department of Electronics, Information and Communication Engineering, Osaka Institute of Technology) ,  Umeda Yuji (Department of Electronics, Information and Communication Engineering, Osaka Institute of Technology) ,  Tsujimoto Singo (Department of Electronics, Information and Communication Engineering, Osaka Institute of Technology) ,  Nakamura Ryosuke (Science & Technology Entrepreneurship Laboratory, Osaka University) ,  Nishiyama Takashi (Department of Applied Chemistry and Bioengineering, Graduate School of Engineering, Osaka City University) ,  Horibe Hideo (Department of Applied Chemistry and Bioengineering, Graduate School of Engineering, Osaka City University)
資料名： Journal of Photopolymer Science and Technology  (Journal of Photopolymer Science and Technology)
巻： 30  号： 3  ページ： 291-295(J-STAGE)  発行年： 2017年 
JST資料番号： L0202A  ISSN： 0914-9244  CODEN： JSTEEW  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： レーザー照射によるレジスト除去現象を,有限要素(FE)法を用いることによって分析した。水中でのレーザー照射は,通常大気圧下での照射のそれと比較して,レジスト除去効果を改善することができる。二次元(2-D)マイクロFEモデルを,レーザー照射下でのSiウエハー,レジストおよび水の間の境界面に基づいて構築した。通常大気下においては,いかなる有効な応力も,レジスト中でx軸方向に沿って発生しなかった。対照的に,水中でのレーザー照射に対しては,大きな圧縮応力が,レジスト中でx軸方向に沿って確認された。レジスト中のこの圧縮応力はレジスト除去効率を改善すると考えられる。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： *フォトレジスト ,  *レーザ照射 ,  現象 ,  数値解析 ,  気圧 ,  ウエハ【IC】 ,  圧縮応力 ,  効率 ,  シリコンウエハ ,  有限要素解析
準シソーラス用語： 除去効率 ,  大気圧 ,  有限要素分析法

著者キーワード (5件)： Analysis of resist removal ,  Finite element (FE) method ,  Laser irradiation ,  Removal efficiency ,  Stress

分類 (2件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V) ,  レーザの応用  (BD04100V)

引用文献 (18件)：

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• 3. M. N. Kawaguchi, J. S. Papanu, B. Su, M. Castle, and A. Al-Bayati, J. Vac. Sci. Technol. B., 24 (2006) 657.
• 4. M. Yamamoto, T. Maruoka, A. Kono, H. Horibe, and H. Umemoto, Jpn. J. Appl. Phys., 49 (2010) 016701.
• 5. H. Morinaga, M. Suyama, and T. Ohmi, J. Electrochem. Soc., 141 (1994) 2834.

タイトルに関連する用語 (4件)： レーザー照射 ,  レジスト ,  現象 ,  分析