特許
J-GLOBAL ID：201703001859575530

膜の洗浄方法

発明者：
瀧口 佳介

瀧口 佳介 について


出願人/特許権者：
オルガノ株式会社

オルガノ株式会社 について


代理人 (1件)： 特許業務法人YKI国際特許事務所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2015-117831
公開番号（公開出願番号）：特開2017-000960
出願日： 2015年06月10日
公開日（公表日）： 2017年01月05日
要約：
【課題】外圧式中空糸膜モジュールを用いるろ過処理において、処理水の回収率の低下を抑制するとともに、安定運転を行うことができる膜の洗浄方法を提供する。【解決手段】外圧式中空糸膜の膜モジュール56を用いて懸濁物質を含む被処理水のろ過処理を行うろ過工程の後、膜モジュール56の一次側に気体を導入して中空糸膜を洗浄する気体洗浄工程を行い、その後、ろ過工程に戻る、第1のサイクルと、ろ過工程を行った後、外圧式中空糸膜モジュールの二次側に逆洗水を導入して中空糸膜を洗浄する逆洗工程を行い、その後、ろ過工程に戻る、第2のサイクルと、を含み、第1のサイクルを複数回行った後、第2のサイクルを行う膜の洗浄方法である。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
外圧式中空糸膜モジュールを用いて懸濁物質を含む被処理水のろ過処理を行うろ過工程の後、前記外圧式中空糸膜モジュールの一次側に気体を導入して中空糸膜を洗浄する気体洗浄工程を行い、その後、前記ろ過工程に戻る、第1のサイクルと、 前記ろ過工程を行った後、前記外圧式中空糸膜モジュールの二次側に逆洗水を導入して前記中空糸膜を洗浄する逆洗工程を行い、その後、前記ろ過工程に戻る、第2のサイクルと、 を含み、 前記第1のサイクルを複数回行った後、前記第2のサイクルを行うことを特徴とする膜の洗浄方法。
IPC (2件)：
B01D 65/02 ,  C02F 1/52
FI (3件)：
B01D65/02 ,  B01D65/02 520 ,  C02F1/52 Z
Fターム (33件)：
4D006GA06 ,  4D006HA02 ,  4D006HA19 ,  4D006JA53Z ,  4D006JA67Z ,  4D006JA70Z ,  4D006KA03 ,  4D006KB13 ,  4D006KB30 ,  4D006KC02 ,  4D006KC03 ,  4D006KC13 ,  4D006KC14 ,  4D006KD01 ,  4D006KD08 ,  4D006KD24 ,  4D006KE06Q ,  4D006KE28Q ,  4D006KE30R ,  4D006MA01 ,  4D006MA21 ,  4D006MB05 ,  4D006MC29 ,  4D006PA01 ,  4D006PB04 ,  4D015BA22 ,  4D015BB05 ,  4D015CA20 ,  4D015DA04 ,  4D015DA05 ,  4D015DA12 ,  4D015DC02 ,  4D015EA37
引用特許：
審査官引用 (13件)
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