特許
J-GLOBAL ID：201703003941032475

レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法

発明者：
増山 達郎

増山 達郎 について

, 
市川 幸司

市川 幸司 について


出願人/特許権者：
住友化学株式会社

住友化学株式会社 について


代理人 (1件)： 新樹グローバル・アイピー特許業務法人
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-189876
公開番号（公開出願番号）：特開2017-072830
出願日： 2016年09月28日
公開日（公表日）： 2017年04月13日
要約：
【課題】ウォーターマークがなく、ラインエッジラフネスが良好なレジストパターンを製造できるレジスト組成物を提供することを目的とする。【解決手段】式(I)で表される化合物に由来する構造単位を有する樹脂(X)、酸不安定基を有する構造単位を有する樹脂(A)及び酸発生剤を含有するレジスト組成物。[式中、R1は、ハロゲン原子を有してもよいアルキル基、水素原子等;R2はフッ素化炭化水素基又は式(t)で表される基、At46及びAt47は、それぞれフッ素原子を有していてもよい脂肪族炭化水素基、Xt44は、カルボニルオキシ基又はオキシカルボニル基、At46及びAt47の少なくとも一方は、1以上のフッ素原子を有する。*はカルボニル基との結合手;R3及びR4はそれぞれアルキル基;A1及びA2はそれぞれアルカンジイル基であり、酸素原子との結合位の炭素原子は3級炭素原子ではない。]【選択図】なし
請求項（抜粋）：
式(I)で表される化合物に由来する構造単位を有する樹脂(X)、酸不安定基を有する構造単位を有する樹脂(A)及び酸発生剤を含有するレジスト組成物。
IPC (4件)：
G03F 7/039 ,  G03F 7/004 ,  G03F 7/20 ,  C08F 20/28
FI (4件)：
G03F7/039 601 ,  G03F7/004 503A ,  G03F7/20 521 ,  C08F20/28
Fターム (59件)：
2H197AA06 ,  2H197AA12 ,  2H197CA06 ,  2H197CA08 ,  2H197CE01 ,  2H197CE10 ,  2H197HA03 ,  2H197JA22 ,  2H225AF11P ,  2H225AF16P ,  2H225AF22P ,  2H225AF25P ,  2H225AF53P ,  2H225AF67P ,  2H225AF71P ,  2H225AF99P ,  2H225AH11 ,  2H225AH17 ,  2H225AH19 ,  2H225AH38 ,  2H225AH49 ,  2H225AH50 ,  2H225AJ13 ,  2H225AJ53 ,  2H225AJ55 ,  2H225AJ58 ,  2H225AM22P ,  2H225AM27P ,  2H225AM99P ,  2H225AN38P ,  2H225AN39P ,  2H225AN45P ,  2H225AN54P ,  2H225BA02P ,  2H225BA26P ,  2H225BA29P ,  2H225CA12 ,  2H225CB10 ,  2H225CC03 ,  2H225CC15 ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100BA03P ,  4J100BA15P ,  4J100BA20P ,  4J100BB07P ,  4J100BB12P ,  4J100BB17P ,  4J100BB18P ,  4J100BC09P ,  4J100BC09Q ,  4J100BC12P ,  4J100CA01 ,  4J100CA04 ,  4J100DA01 ,  4J100FA03 ,  4J100FA19 ,  4J100JA37 ,  4J100JA38
引用特許：
審査官引用 (11件)
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