特許
J-GLOBAL ID：201703006023343165

露光装置および露光方法、ならびに物品の製造方法

発明者：
西村 光英

西村 光英 について


出願人/特許権者：
キヤノン株式会社

キヤノン株式会社 について


代理人 (1件)： 高岡 亮一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-067408
公開番号（公開出願番号）：特開2016-206654
出願日： 2016年03月30日
公開日（公表日）： 2016年12月08日
要約：
【課題】フォーカシング精度およびスループットの点で有利な露光装置を提供する。【解決手段】基板上の複数の露光領域を露光する露光方法であって、前記基板の基準の高さを示す第1基準情報を取得する工程(S104)と、前記複数の露光領域のうち一部の露光領域の高さを計測する工程と、前記計測する工程で計測された結果に基づいて、前記基板の、仮の高さを示す仮高さ情報を取得する工程と、前記第1基準情報と前記仮高さ情報との差、および、前記複数の露光領域のうちの1つの露光領域の基準の高さを示す第2基準情報、に基づいて前記基板を移動させた後に、前記1つの露光領域を露光する工程と、を含む。【選択図】図4
請求項（抜粋）：
基板上の複数の露光領域を露光する露光方法であって、 前記基板の基準の高さを示す第1基準情報を取得する工程と、 前記複数の露光領域のうち一部の露光領域の高さを計測する工程と、 前記計測する工程で計測された結果に基づいて、前記基板の、仮の高さを示す仮高さ情報を取得する工程と、 前記第1基準情報と前記仮高さ情報との差、および、前記複数の露光領域のうちの1つの露光領域の基準の高さを示す第2基準情報、に基づいて前記基板を移動させた後に、前記1つの露光領域を露光する工程と、を含むことを特徴とする露光方法。
IPC (1件)：
G03F 9/02
FI (1件)：
G03F9/02 H
Fターム (10件)：
2H197AA06 ,  2H197AA09 ,  2H197CD02 ,  2H197CD12 ,  2H197CD16 ,  2H197DA03 ,  2H197DA09 ,  2H197EA06 ,  2H197EA17 ,  2H197EA18
引用特許：
審査官引用 (7件)
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