特許
J-GLOBAL ID：201703007637702389
酸化チタンナノ構造体の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
須田 篤
, 楠 修二
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-068460
公開番号（公開出願番号）：特開2017-178672
出願日： 2016年03月30日
公開日（公表日）： 2017年10月05日
要約：
【課題】室温・大気下で完了することができ、10nm以下の膜厚を有し、なおかつサブナノメートルスケールでの膜厚制御性を有し、なおかつ、サブマイクロメートルスケールでの微細パターン構造を有する酸化チタンナノ構造体からなるコーティングを簡便に製造することができる酸化チタンナノ構造体の製造方法を提供する。【解決手段】基板上に形成した高分子チタン含有錯体の単分子膜またはその積層膜を、フォトマスクを通した紫外光照射によって光酸化することにより、酸化チタン超薄膜からなるナノパターンを得る。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
一般式(a)
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (3件)：
4G047CA02
, 4G047CB05
, 4G047CD02
