特許
J-GLOBAL ID：201703016468628599

凹凸表面貼付用フィルムを用いた表面凹凸被処理物への微細パターン転写方法

発明者：
佐々木 実

佐々木 実 について

, 
斉藤 誠法

斉藤 誠法 について


出願人/特許権者：
株式会社アイセロ

株式会社アイセロ について

, 
学校法人トヨタ学園

学校法人トヨタ学園 について


代理人 (2件)： 長谷部 善太郎 ,  山田 泰之
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2015-201508
公開番号（公開出願番号）：特開2017-071202
出願日： 2015年10月09日
公開日（公表日）： 2017年04月13日
要約：
【課題】フォトリソグラフィは、微細形状を一括で高い生産性と共に製作できる特徴を持つが、自由度の高い加工方法は見出されていない。凹凸表面貼付用フィルムを用いた表面凹凸被処理物上への微細パターン転写方法を提供する。【解決手段】ベースフィルム4、水溶性樹脂層3、未硬化の感光性レジスト膜層2を順に設けてなる積層構造を有し、感光性レジスト膜2側から表面凹凸被処理物上にJISK6854に規格される180度剥離強度が65mN/インチ以上であり、120°C以下、大気圧以下の環境下で、ラミネーターで押圧をかけることなく貼り付け可能な凹凸表面貼付用フィルム1、及び表面凹凸被処理物に、凹凸表面貼付用フィルム1を貼り付けた後、フォトリソグラフィによりパターンを形成する微細パターン転写方法。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
ベースフィルム、水溶性樹脂層、未硬化の感光性レジスト膜層を順に設けてなる積層構造を有し、該感光性レジスト膜側から表面凹凸被処理物上にJIS K 6854に規格される180度剥離強度が65mN/インチ以上であり、120°C以下、大気圧以下の環境下で、押圧0.1MPa以下で貼り付け可能なことを特徴とする凹凸表面貼付用フィルム。
IPC (4件)：
B32B 27/00 ,  G03F 7/11 ,  G03F 7/40 ,  G03F 7/004
FI (6件)：
B32B27/00 B ,  G03F7/11 502 ,  G03F7/11 501 ,  G03F7/40 521 ,  G03F7/40 511 ,  G03F7/004 512
Fターム (68件)：
2H125CA30 ,  2H125CB02 ,  2H125CC03 ,  2H125CD11N ,  2H125CD11P ,  2H125CD16N ,  2H125CD18N ,  2H125CD31 ,  2H125CD40 ,  2H125DA42 ,  2H125DA47 ,  2H125FA18 ,  2H196AA30 ,  2H196BA09 ,  2H196CA16 ,  2H196EA02 ,  2H196GA01 ,  2H196GA17 ,  2H196HA31 ,  2H196HA33 ,  2H196JA04 ,  2H225CA30 ,  2H225CB02 ,  2H225CC03 ,  2H225CD18 ,  2H225DA22 ,  2H225DA26 ,  4F100AJ03B ,  4F100AK01B ,  4F100AK22 ,  4F100AK25B ,  4F100AK41B ,  4F100AK42 ,  4F100AK54B ,  4F100AK55B ,  4F100AK69B ,  4F100AL01B ,  4F100AR00C ,  4F100AS00D ,  4F100AT00A ,  4F100BA03 ,  4F100BA04 ,  4F100BA07 ,  4F100BA10A ,  4F100BA10C ,  4F100BA10D ,  4F100DD01D ,  4F100EG003 ,  4F100EH46 ,  4F100EJ013 ,  4F100EJ543 ,  4F100EJ583 ,  4F100EJ86 ,  4F100EJ91 ,  4F100GB41 ,  4F100HB00C ,  4F100JB09B ,  4F100JB15C ,  4F100JK02A ,  4F100JK06C ,  4F100JK07A ,  4F100JK13A ,  4F100JK14A ,  4F100JK14B ,  4F100JN17C ,  4F100YY00A ,  4F100YY00B ,  4F100YY00C
引用特許：
審査官引用 (11件)
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