特許
J-GLOBAL ID：201703018108414876
多層膜付き基板の再生方法、多層反射膜付き基板の製造方法、及び反射型マスクブランクの製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
永田 豊
, 大島 孝文
, 太田 司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-067908
公開番号（公開出願番号）：特開2017-181733
出願日： 2016年03月30日
公開日（公表日）： 2017年10月05日
要約：
【課題】大掛かりで複雑な構造の装置を必要とせず、多層膜の剥離除去による基板のダメージが少なく、再研磨の工程負荷も少ないことにより、基板の再生コストを低減できる多層反射膜付き基板の再生方法を提供する。【解決手段】モリブデン(Mo)と珪素(Si)の少なくとも一方を含む2種以上の屈折率の異なる材料を交互に積層してなる多層反射膜を有する多層膜が基板上に形成された多層膜付き基板4を、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、アンモニアから選ばれる少なくとも一つと過酸化水素とを含む水溶液からなる剥離液2に接触させて、基板4から前記多層反射膜を剥離除去し、基板4を再生する。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
モリブデンと珪素の少なくとも一方を含む2種以上の屈折率の異なる材料を交互に積層してなる多層反射膜を有する多層膜が基板上に形成された多層膜付き基板を、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、アンモニアから選ばれる少なくとも一つと過酸化水素とを含む水溶液からなる剥離液に接触させて、前記基板から前記多層反射膜を剥離除去し、基板を再生することを特徴とする多層膜付き基板の再生方法。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (4件)：
2H195BB27
, 2H195BC26
, 2H195CA20
, 2H195CA22
