基板処理装置

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出願人/特許権者：
代理人 (3件)：松阪正弘 , 田中勉 , 井田正道
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-026224
公開番号（公開出願番号）：特開2014-154858
特許番号：特許第6163315号
出願日： 2013年02月14日
公開日（公表日）： 2014年08月25日
請求項（抜粋）：

【請求項1】基板を処理する基板処理装置であって、上下方向を向く中心軸を中心とする環状であり、水平状態の基板の外縁部を下側から支持する環状支持部と、前記環状支持部の内側にて前記基板の下面の全体に亘って対向する対向面を有する下面対向部と、前記環状支持部を前記基板と共に前記中心軸を中心として前記下面対向部に対して相対的に回転する回転機構と、前記基板の上面に第1処理液を供給する第1処理液供給部と、前記下面対向部に設けられた処理液ノズルから前記基板の前記下面の中央部に第2処理液を供給する第2処理液供給部と、前記下面対向部において前記中心軸から離れた位置に配置され、前記対向面から突出し、前記基板の前記下面に向けて加熱したガスを噴出する少なくとも1つのガス噴出ノズルと、を備え、前記対向面が前記中心軸から離れるに従って前記基板から離れる傾斜面であり、前記少なくとも1つのガス噴出ノズルが、前記中心軸とは反対側に向けて前記加熱したガスを噴出するように、前記中心軸に対して傾斜するガス噴出ノズルを含むことを特徴とする基板処理装置。

IPC (2件)：

H01L 21/306 ( 200 6.01) , H01L 21/304 ( 200 6.01)

FI (2件)：

H01L 21/306 R , H01L 21/304 643 A

引用特許：

審査官引用 (12件)

基板処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2002-322070 出願人：大日本スクリーン製造株式会社
スピン処理方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-238494 出願人：芝浦メカトロニクス株式会社
洗浄乾燥装置および洗浄乾燥方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-147200 出願人：松下電器産業株式会社

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