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J-GLOBAL ID:201802234678428782   整理番号:18A0178129

スマート積層技術を用いて作製された二端子III-V/Siタンデム太陽電池の結合抵抗の低減

Reduction of bonding resistance of two-terminal III-V/Si tandem solar cells fabricated using smart-stack technology
著者 (6件):
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巻: 56  号: 12  ページ: 122302.1-122302.5  発行年: 2017年12月 
JST資料番号: G0520B  ISSN: 0021-4922  CODEN: JJAPB6  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: イギリス (GBR)  言語: 英語 (EN)
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本論文は,トップセルとボトムセルをPdナノ粒子アレイを用いて結合した機械的に積層された二端子GaAs/Si-InGaP/Siタンデム太陽電池の結合抵抗を顕著に減らす方法を記述した。III-Vトップセルの電極の下のSiボトムセルの表面を部分的に覆った透明導電性酸化物(TCO)層は,充填因子(FF)と電池の変換効率を著しく増強した。部分的なTCO層は結合抵抗を減らし,従って,InGaP/SiのFFと効率を,それぞれ,1.20と1.11の因子だけ増大させる。結果として,効率は15%を超えた。TCO層の結合界面での光学損失を極小化することは,高効率太陽電池の作製において重要である。これを容易にするために,光学シミュレーションと実験的検証を通じて,タンデム太陽電池内の光学損失を完全に特性評価した。(翻訳著者抄録)
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分類 (1件):
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太陽電池 
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