特許
J-GLOBAL ID：201803004343922559
多層反射膜付き基板の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (5件)：
特許業務法人 津国
, 津国 肇
, 三宅 俊男
, 柴田 明夫
, 杉本 将市
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2014-538500
特許番号：特許第6279476号
出願日： 2013年09月24日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 高屈折率層と低屈折率層とを交互に積層した多層反射膜を、マスクブランク用基板の転写パターンが形成される側の主表面上に有する多層反射膜付き基板の製造方法であって、
高屈折率材料と低屈折率材料のターゲットを用いたイオンビームスパッタリングにより、前記主表面上に前記多層反射膜を成膜する工程を有し、
前記イオンビームスパッタリングにおいて、前記多層反射膜の膜表面の1μm×1μmの領域を原子間力顕微鏡で測定して得られる空間周波数1μm-1以上10μm-1以下におけるパワースペクトル密度が20nm4以下であって、且つ、空間周波数10μm-1以上100μm-1以下におけるパワースペクトル密度が10nm4以下となるように、前記高屈折率材料と前記低屈折率材料のスパッタ粒子を前記主表面の法線に対して所定の入射角度で入射させ、
前記入射角度が、前記主表面の法線に対して0度以上30度以下であり、
前記マスクブランク用基板が、EEM(Elastic Emission Machining)及び/又は触媒基準エッチング:CARE(CAtalyst-Referred Etching)により表面加工されていることを特徴とする多層反射膜付き基板の製造方法。
IPC (2件)：
G03F 1/24 ( 201 2.01)
, G03F 1/84 ( 201 2.01)
出願人引用 (6件)
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審査官引用 (5件)
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