特許
J-GLOBAL ID：201803004981986076

撮像素子、撮像素子の製造方法、電子機器、及び、撮像モジュール

発明者：
横川 創造

横川 創造 について

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村上 裕隆

村上 裕隆 について

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伊藤 幹記

伊藤 幹記 について


出願人/特許権者：
ソニーセミコンダクタソリューションズ株式会社

ソニーセミコンダクタソリューションズ株式会社 について


代理人 (2件)： 西川 孝 ,  稲本 義雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2017-096403
公開番号（公開出願番号）：特開2018-195908
出願日： 2017年05月15日
公開日（公表日）： 2018年12月06日
要約：
【課題】GMRフィルタ等の光の入射面又は入射面に平行な面における電磁波の干渉を利用する構造色フィルタを備える撮像素子、又は、撮像素子を備える装置を小型化する。【解決手段】撮像素子は、光の入射面又は前記入射面に平行な面における電磁波の干渉を利用する構造色フィルタと、隣接する前記構造色フィルタの間において電磁波を反射する反射部とを備える。本技術は、例えば、GMRフィルタを備えるイメージセンサ、例えば、裏面照射型又は表面照射型のCMOSイメージセンサに適用できる。【選択図】図7
請求項（抜粋）：
光の入射面又は前記入射面に平行な面における電磁波の干渉を利用する構造色フィルタと、 隣接する前記構造色フィルタの間において電磁波を反射する反射部と を備える撮像素子。
IPC (5件)：
H04N 9/07 ,  H04N 5/369 ,  G02B 5/18 ,  G02B 5/20 ,  H01L 27/146
FI (6件)：
H04N9/07 A ,  H04N9/07 D ,  H04N5/369 ,  G02B5/18 ,  G02B5/20 101 ,  H01L27/146 D
Fターム (42件)：
2H148BA02 ,  2H148BG11 ,  2H148BH24 ,  2H249AA03 ,  2H249AA13 ,  2H249AA55 ,  2H249AA64 ,  4M118AB01 ,  4M118BA14 ,  4M118BA19 ,  4M118CA04 ,  4M118DD04 ,  4M118DD12 ,  4M118FA06 ,  4M118FA25 ,  4M118FA33 ,  4M118GA02 ,  4M118GB04 ,  4M118GB07 ,  4M118GB11 ,  4M118GC01 ,  4M118GC07 ,  4M118GC13 ,  4M118GC14 ,  4M118GC17 ,  4M118GD04 ,  4M118GD07 ,  4M118HA22 ,  4M118HA24 ,  4M118HA25 ,  4M118HA29 ,  4M118HA31 ,  4M118HA33 ,  5C024CY47 ,  5C024EX41 ,  5C024EX52 ,  5C065BB48 ,  5C065CC01 ,  5C065DD15 ,  5C065DD17 ,  5C065EE10 ,  5C065EE11
引用特許：
出願人引用 (9件)
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審査官引用 (9件)
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