浸液蒸発作用の低い光学結像

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：杉村憲司
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-020343
公開番号（公開出願番号）：特開2016-128920
特許番号：特許第6242925号
出願日： 2016年02月05日
公開日（公表日）： 2016年07月14日
請求項（抜粋）：

【請求項1】光学結像プロセスで使用するための光学素子であって、光学素子本体と、第1表面領域と、第2表面領域と、を備え、前記第1表面領域は、前記光学結像プロセス中に電場に反応する浸液で濡れるようになっており、少なくとも1つの導電素子が、前記第1表面領域及び前記第2表面領域の少なくとも一方の領域で前記光学素子本体に機械的に接続されており、前記少なくとも1つの導電素子を、前記電場の発生に関与するよう構成し、前記少なくとも1つの導電素子を、前記第1表面領域の領域に位置付け、前記電場を、引力が前記浸液のうち前記第2表面領域に偶発的に接触した部分と前記少なくとも1つの導電素子との間で作用するよう構成した、光学素子。

IPC (1件)：