特許
J-GLOBAL ID：201803020809958902

基板処理装置および反応管

発明者：
山▲ざき▼ 恵信

山▲ざき▼ 恵信 について

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村田 慧

村田 慧 について

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森田 慎也

森田 慎也 について


出願人/特許権者：
株式会社日立国際電気

株式会社日立国際電気 について


公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-573292
特許番号：特許第6257008号
出願日： 2016年01月26日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 基板を処理する基板処理領域を内部に有する反応管と、 前記反応管の下部に配置される炉口部と、を有し、 前記反応管は、 前記反応管の下方の外周側に突出するフランジと、 前記フランジの下端から下方に延伸し、前記基板処理領域に対応する位置における前記反応管の厚さよりも厚く形成され、前記炉口部の内周面を覆う延伸部と、を有し、 前記延伸部の内面は、前記基板処理領域に対応する位置における前記反応管の内面よりも内側に突き出ている基板処理装置。
IPC (4件)：
H01L 21/31 ( 200 6.01) ,  C23C 16/44 ( 200 6.01) ,  H01L 21/22 ( 200 6.01) ,  H01L 21/324 ( 200 6.01)
FI (4件)：
H01L 21/31 B ,  C23C 16/44 J ,  H01L 21/22 511 Q ,  H01L 21/324 G
引用特許：
出願人引用 (7件)
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審査官引用 (7件)
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