文献

J-GLOBAL ID：201902229330464949   整理番号：19A2616959

光子モード対熱モードにより駆動された酸化グラフェンの選択的還元機構【JST・京大機械翻訳】

Selective Reduction Mechanism of Graphene Oxide Driven by the Photon Mode versus the Thermal Mode

著者 (27件)： Hada Masaki (Tsukuba Research Center for Interdisciplinary Materials Science, Faculty of Pure and Applied Sciences, University of Tsukuba, Japan) ,  Hada Masaki (Graduate School of Natural Science and Technology, Okayama University) ,  Miyata Kiyoshi (Faculty of Science, Kyushu University, Japan) ,  Ohmura Satoshi (Faculty of Engineering, Hiroshima Institute of Technology, Japan) ,  Arashida Yusuke (Graduate School of Engineering, Yokohama National University, Japan) ,  Ichiyanagi Kohei (High Energy Accelerator Research Organization, Japan) ,  Katayama Ikufumi (Graduate School of Engineering, Yokohama National University, Japan) ,  Suzuki Takayuki (Graduate School of Engineering, Yokohama National University, Japan) ,  Chen Wang (Research Core for Interdisciplinary Sciences, Okayama University) ,  Mizote Shota (Graduate School of Natural Science and Technology, Okayama University) ,  Sawa Takayoshi (Graduate School of Natural Science and Technology, Okayama University) ,  Yokoya Takayoshi (Graduate School of Natural Science and Technology, Okayama University) ,  Yokoya Takayoshi (Research Institute for Interdisciplinary Science, Okayama University) ,  Seki Toshio (Department of Nuclear Engineering, Kyoto University) ,  Matsuo Jiro (Quantum Science and Engineering Center, Kyoto University) ,  Tokunaga Tomoharu (Graduate School of Engineering, Nagoya University, Japan) ,  Itoh Chihiro (Faculty of System Engineering, Wakayama University, Japan) ,  Tsuruta Kenji (Graduate School of Natural Science and Technology, Okayama University) ,  Fukaya Ryo (High Energy Accelerator Research Organization, Japan) ,  Nozawa Shunsuke (High Energy Accelerator Research Organization, Japan) ,  Adachi Shin-ichi (High Energy Accelerator Research Organization, Japan) ,  Takeda Jun (Graduate School of Engineering, Yokohama National University, Japan) ,  Onda Ken (Faculty of Science, Kyushu University, Japan) ,  Koshihara Shin-ya (School of Science, Tokyo Institute of Technology, Japan) ,  Hayashi Yasuhiko (Graduate School of Natural Science and Technology, Okayama University) ,  Nishina Yuta (Graduate School of Natural Science and Technology, Okayama University) ,  Nishina Yuta (Research Core for Interdisciplinary Sciences, Okayama University)
資料名： ACS Nano  (ACS Nano)
巻： 13  号： 9  ページ： 10103-10112  発行年： 2019年 
JST資料番号： W2326A  ISSN： 1936-0851  CODEN： ANCAC3  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 二次元ナノカーボン,グラフェンはその優れた特性のためにかなりの興味を引き付けている。グラフェン酸化物(GO)の還元を,実際の応用で使用されるグラフェンの大量生産のために研究した。異なる還元プロセスは,グラフェンにおいて異なる特性を生成し,最終材料またはデバイスの性能に影響を及ぼす。したがって,GO還元の機構の理解は,機能的二次元システムの特性を制御するために重要である。ここでは,加熱及び光励起により調製した還元GOの平均構造を決定し,超高速時間分解電子回折,時間分解赤外振動分光法及び時間依存密度汎関数理論計算を用いてそれらの還元機構を明確に識別した。エポキシ基の酸素原子は,光励起(光子モード)によりGOの基底面から選択的に除去され,ヒドロキシル基とエポキシ基(熱モード)の熱還元で観察される挙動とは対照的である。その違いは,それらの反結合特性による電子遷移によるエポキシ結合の選択的励起に起因する。本研究は,意図した応用のための最適GOの調製を可能にし,二次元システムの応用範囲を拡大する。Copyright 2019 American Chemical Society All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： *光子 ,  ヒドロキシ基 ,  電子遷移 ,  赤外線 ,  二次元 ,  励起 ,  光ポンピング ,  *グラフェン ,  電子回折 ,  *還元 ,  大量生産 ,  エポキシ基 ,  ナノカーボン ,  *酸化グラフェン
準シソーラス用語： 超高速 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (5件)： 酸化グラフェン ,  構造動力学 ,  時間分解電子回折 ,  時間分解分光法 ,  時間依存密度汎関数理論

分類 (1件)： 炭素とその化合物  (YB02060D)

タイトルに関連する用語 (3件)： 光子 ,  酸化グラフェン ,  選択的還元