ファクトリインターフェースの環境制御を伴う基板処理のシステム、装置、及び方法

発明者： , , , , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：園田・小林特許業務法人
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2018-158341
公開番号（公開出願番号）：特開2019-016798
出願日： 2018年08月27日
公開日（公表日）： 2019年01月31日
要約：

【課題】基板の処理における効率及び/又は能力が改良された、システム、装置及び方法を提供する。【解決手段】電子デバイス処理システム100は、ファクトリインターフェースチャンバ114C、ファクトリインターフェース114に結合されたロードロックチャンバ112、ファクトリインターフェースに結合された一又は複数の基板キャリア及びファクトリインターフェースに結合され、かつ、ファクトリインターフェースチャンバの中の相対湿度、温度、酸素の量、又は不活性ガスの量、のうちの1つをモニタ又は制御するよう作動する、環境制御システムを有する、ファクトリインターフェースを有する。別では、ファクトリインターフェースチャンバの中のキャリアパージチャンバのパージが提供される。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

ファクトリインターフェースチャンバを含むファクトリインターフェースと、前記ファクトリインターフェースに結合されたロードロック装置と、前記ファクトリインターフェースに結合された一又は複数の基板キャリアと、前記ファクトリインターフェースに結合され、かつ、前記ファクトリインターフェースチャンバの中の、相対湿度、温度、 O2の量、又は、不活性ガスの量、のうちの1つをモニタ又は制御するよう作動する、環境制御システムとを備える、電子デバイス処理システム。

IPC (1件)：

H01L 21/677

FI (1件)：

H01L21/68 A

Fターム (21件)：

5F131AA02 , 5F131BB04 , 5F131CA32 , 5F131DA32 , 5F131DA33 , 5F131DA35 , 5F131GA14 , 5F131JA08 , 5F131JA12 , 5F131JA13 , 5F131JA14 , 5F131JA15 , 5F131JA20 , 5F131JA24 , 5F131JA35 , 5F131KA06 , 5F131KA22 , 5F131KA23 , 5F131KA24 , 5F131KA25 , 5F131KA40

引用特許：

審査官引用 (10件)

基板移送モジュールの汚染を制御することができる基板処理装置及び方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2003-397403 出願人：三星電子株式会社
半導体製造システム
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-104209 出願人：ダイキン工業株式会社, 三菱電機株式会社
ALDおよびCVD用のバッチ処理プラットフォーム
公報種別：公表公報出願番号：特願2009-518447 出願人：アプライドマテリアルズインコーポレイテッド

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