特許
J-GLOBAL ID：200903093097211144
基板移送モジュールの汚染を制御することができる基板処理装置及び方法
発明者：
,
,
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (6件)：
八田 幹雄
, 野上 敦
, 奈良 泰男
, 齋藤 悦子
, 宇谷 勝幸
, 藤井 敏史
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-397403
公開番号（公開出願番号）：特開2004-311940
出願日： 2003年11月27日
公開日（公表日）： 2004年11月04日
要約：
【課題】基板移送モジュールの汚染を制御することができる基板処理装置及び方法を提供する。【解決手段】基板を収容する容器106を支持するロードポート112aを備え、基板に処理を行う工程チャンバを含む基板処理部へ基板を移送するロボットが内部に配置された基板移送チャンバ110を含む基板移送モジュール108と、基板移送チャンバ110に浄化ガスを供給して内部を浄化するガス供給部132及び浄化ガスを再循環させるガス循環管138を含む汚染制御部130を備える。基板移送チャンバ内を浄化して湿気及び汚染物質を除去し、処理完了後の基板が容器内で待機中に湿気及び汚染物質と反応して凝縮粒子を形成することを防止する。【選択図】 図6
請求項（抜粋）：
複数個の基板を収容する容器と、
前記基板に対して設定された工程を実施する少なくとも一つの工程チャンバを含む基板処理部と、
前記容器内の基板を前記基板処理部に移送するための基板移送手段がその内部に配置されている基板移送チャンバ、及び前記基板移送チャンバの外部に配置され、前記容器を支持するための少なくとも一つのロードポートを含み、前記基板処理部に連結される基板移送モジュールと、
前記基板移送チャンバに連結され、前記基板移送チャンバ内に浄化ガスを供給するガス供給部、及び前記基板移送チャンバ内部の浄化ガスを再循環させて前記基板移送チャンバ内に供給するガス循環管を含む汚染制御部と、
を備えることを特徴とする基板処理装置。
IPC (2件)：
FI (3件)：
H01L21/68 A
, H01L21/68 T
, B65G49/07 L
5F031CA02
, 5F031DA08
, 5F031FA01
, 5F031FA11
, 5F031FA12
, 5F031FA15
, 5F031GA43
, 5F031JA45
, 5F031JA46
, 5F031MA32
, 5F031NA02
, 5F031NA03
, 5F031NA04
, 5F031NA05
, 5F031NA09
, 5F031NA10
, 5F031NA16
, 5F031NA17
, 5F031PA26
, 5F031PA30
出願人引用 (3件)
審査官引用 (10件)
全件表示
前のページに戻る
