ロードロックシステム及び露光処理システム並びにデバイスの製造方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：大塚康徳 , 高柳司郎 , 大塚康弘 , 木村秀二
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-067778
公開番号（公開出願番号）：特開2004-311966
出願日： 2004年03月10日
公開日（公表日）： 2004年11月04日
要約：

【課題】所定のスループットを確保すると共に高品位な処理を実現すること【解決手段】ロードロックシステムは、基板を格納する格納ポート10と外部の圧力より低い圧力に維持された処理空間内で該基板を処理するための処理室1との間に配置されるロードロック室3と、ロードロック室3内に除湿された環境を形成する除湿ユニット97と、を備える。ロードロックシステムはまた、格納ポート10及びロードロック室3の間に他の室9を備え、除湿ユニット97は、他の室9を除湿する。【選択図】図2

請求項（抜粋）：

基板を格納する格納ポートと、外部の圧力より低い圧力に維持された処理空間内で該基板を処理するための処理室と、の間に配置されるロードロック室と、前記ロードロック室内に除湿された環境を形成する除湿ユニットと、を備えることを特徴とするロードロックシステム。

IPC (2件)：

H01L21/027 , G03F7/20

FI (4件)：

H01L21/30 531A , G03F7/20 503 , G03F7/20 505 , H01L21/30 516F

Fターム (6件)：

2H097BA02 , 2H097LA10 , 2H097LA12 , 5F046AA22 , 5F046CA03 , 5F046GA07

引用特許：

出願人引用 (5件)

ロードロック室を備えた基板処理装置および被処理基板の搬送方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-296094 出願人：キヤノン株式会社
特開平4-277025号公報
米国特許第5,943,230号明細書

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審査官引用 (19件)

減圧処理装置、半導体製造装置およびデバイス製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-204491 出願人：キヤノン株式会社
特開平2-134579
露光装置および露光方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-081297 出願人：キヤノン株式会社

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