特許
J-GLOBAL ID：202003011588195037
プラズマ処理装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
長谷川 芳樹
, 黒木 義樹
, 柏岡 潤二
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-169503
公開番号（公開出願番号）：特開2018-037281
特許番号：特許第6715129号
出願日： 2016年08月31日
公開日（公表日）： 2018年03月08日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 チャンバ本体と、
前記チャンバ本体によって提供されるチャンバ内に設けられており、該チャンバを第1空間と第2空間に分けるプラズマトラップと、
前記第2空間に設けられた載置台と、
前記第1空間に供給されるガスを励起させるプラズマ源と、
前記第1空間において生成されるプラズマと容量的に結合される電極を有し、該プラズマのポテンシャルを調整するよう構成されたポテンシャル調整部と、
前記第1空間を上方から画成する誘電体窓と、
を備え、
前記プラズマ源は、マイクロ波を前記誘電体窓を介して前記第1空間に導入するように構成されたアンテナを有し、
前記ポテンシャル調整部は、
可変リアクタンス素子を含み、前記電極とグランドとの間に接続されたインピーダンス調整回路と、
前記電極に接続された高周波電源と、
を更に有する、
プラズマ処理装置。
IPC (4件)：
H05H 1/46 ( 200 6.01)
, H01L 21/3065 ( 200 6.01)
, C23C 16/50 ( 200 6.01)
, C23C 16/52 ( 200 6.01)
H05H 1/46 L
, H05H 1/46 B
, H01L 21/302 101 C
, C23C 16/50
, C23C 16/52
