特許
J-GLOBAL ID：202003011681805309
レジスト組成物
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
新樹グローバル・アイピー特許業務法人
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-130173
公開番号（公開出願番号）：特開2017-027038
特許番号：特許第6748493号
出願日： 2016年06月30日
公開日（公表日）： 2017年02月02日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 式(a4-0)で表される構造単位及び酸不安定基を有する構造単位を含む樹脂(A1)と、3〜18個のフッ素原子を有し、かつ、式(I-B)で表される環状構造を備えるアニオンを含む酸発生剤(Ba)とを含有するレジスト組成物。
[式(a4-0)中、
R5は、水素原子又はメチル基を表す。
L4は、単結合又は炭素数1〜4の脂肪族飽和炭化水素基を表す。
L3は、炭素数1〜8のペルフルオロアルカンジイル基又は炭素数3〜12のペルフルオロシクロアルカンジイル基を表す。
R6は、水素原子又はフッ素原子を表す。]
[式(I-B)中、
A1は、炭素数1〜12の2価の炭化水素基を表す。
R3は、炭素数1〜18の炭化水素基を表し、該炭化水素基に含まれるメチレン基は、酸素原子、硫黄原子、カルボニル基又はスルホニル基で置き換わっていてもよく、該炭化水素基に含まれる水素原子は、ヒドロキシ基で置換されていてもよい。A1及びR3は、互いに結合し、これらが結合する炭素原子とともにヘテロ原子を有してもよい環を形成してもよい。
Xa及びXbは、互いに独立に、酸素原子又は硫黄原子を表す。
X2は、フッ素原子を有してもよい2価の炭素数1〜12の飽和炭化水素基を表す。
*は結合手である。]
IPC (6件)：
G03F 7/004 ( 200 6.01)
, G03F 7/038 ( 200 6.01)
, G03F 7/039 ( 200 6.01)
, C08F 220/24 ( 200 6.01)
, C07D 321/10 ( 200 6.01)
, C07D 321/12 ( 200 6.01)
G03F 7/004 503 A
, G03F 7/038 601
, G03F 7/039 601
, C08F 220/24
, C07D 321/10
, C07D 321/12
