フッ素含有重合体及び精製方法並びに感放射線性樹脂組成物

発明者： , , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：小島清路 , 萩野義昇 , 平岩康幸
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-047241
公開番号（公開出願番号）：特開2013-130884
出願日： 2013年03月08日
公開日（公表日）： 2013年07月04日
要約：

【課題】新規フッ素含有重合体、及びその重合体を含有し、得られるパターン形状が良好であり、焦点深度に優れ且つ液浸露光時に接触した水への溶出物の量が少なく、レジスト被膜と水との後退接触角が大きい液浸露光用の感放射線性樹脂組成物、並びにフッ素含有重合体の精製方法を提供する。【解決手段】本発明の樹脂組成物は、下記一般式(1)及び(2)で表される繰り返し単位を含有し且つMwが1000〜50000である新規フッ素含有重合体(A)、酸不安定基を含有する樹脂(B)、感放射線性酸発生剤(C)、窒素含有化合物(D)及び溶剤(E)を含有するものである。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

波長193nmにおける屈折率が空気よりも高い液浸露光用液体をレンズとフォトレジスト被膜との間に介して放射線照射する液浸露光を含むレジストパターン形成方法において、前記フォトレジスト被膜を形成するために用いられる感放射線性樹脂組成物に含有されるフッ素含有重合体であって、該フッ素含有重合体のゲルパーミエーションクロマトグラフィ法により測定される重量平均分子量が1,000〜50,000であり、前記フォトレジスト被膜を形成した際における水との後退接触角が70度以上であることを特徴とするフッ素含有重合体。

IPC (5件)：

G03F 7/004 , G03F 7/039 , H01L 21/027 , C08F 14/18 , C08F 6/06

FI (5件)：

G03F7/004 501 , G03F7/039 601 , H01L21/30 502R , C08F14/18 , C08F6/06

Fターム (53件)：

2H125AF17P , 2H125AF18P , 2H125AF20P , 2H125AF21P , 2H125AF22P , 2H125AF36P , 2H125AF38P , 2H125AF45P , 2H125AF70P , 2H125AH17 , 2H125AH19 , 2H125AH24 , 2H125AH29 , 2H125AJ13X , 2H125AJ14X , 2H125AJ54X , 2H125AJ58X , 2H125AJ64X , 2H125AJ65X , 2H125AJ66X , 2H125AJ68X , 2H125AL03 , 2H125AL11 , 2H125AN39P , 2H125AN42P , 2H125AN54P , 2H125AN57P , 2H125BA01P , 2H125BA02P , 2H125BA26P , 2H125CA12 , 2H125CB09 , 2H125CC03 , 2H125CC15 , 2H125CD07P , 2H125CD08P , 2H125CD31 , 2H125CD37 , 2H125FA03 , 4J100AL08P , 4J100AL08Q , 4J100BB07Q , 4J100BB18Q , 4J100BC03P , 4J100BC04Q , 4J100DA01 , 4J100DA02 , 4J100DA04 , 4J100FA03 , 4J100FA19 , 4J100GC10 , 4J100GC35 , 4J100JA38

引用特許：

審査官引用 (12件)

ポジ型レジスト組成物およびそれを用いたパターン形成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2006-198897 出願人：富士フイルム株式会社
液浸リソグラフィーのための組成物および方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2006-124957 出願人：ローム・アンド・ハース・エレクトロニック・マテリアルズ,エル.エル.シー.
液浸露光用ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2005-057634 出願人：富士写真フイルム株式会社

全件表示

前のページに戻る