特許
J-GLOBAL ID:202003012952884036
シリコンウェーハ吸着装置、シリコンウェーハ搬送装置、シリコンウェーハ搬送システム、及び搬送方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
大上 寛
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2019-553022
公開番号(公開出願番号):特表2020-516065
出願日: 2018年03月29日
公開日(公表日): 2020年05月28日
要約:
シリコンウェーハー吸着装置、シリコンウェーハー搬送装置、シリコンウェーハー搬送システム及び搬送方法において、シリコンウェーハー吸着装置(1)はシリコンウェーハー搬送装置に取り付けられ、シリコンウェーハー吸着装置は吸着装置本体(11)と吸盤装置(12)と含み、ここで、吸着装置本体は第1開口(111)を有し、吸盤装置は第1スカート構造(121)を含み、第1スカート構造は吸着装置本体の一側に位置され、且つ第1開口に連結され、第1スカート構造と第1開口の連結部に溝構造(112)を有し、溝構造は第1スカート構造の外側に位置される。第1スカート構造と第1開口の外側の連結部に溝構造を設けることにより、第1スカート構造が変形される時に吸盤装置の根元に印加される応力を解放することができる。
請求項(抜粋):
吸着装置本体と吸盤装置とを含み、
前記吸着装置本体は第1開口を有し、
前記吸盤装置は第1スカート構造を含み、前記第1スカート構造は前記吸着装置本体の一側に位置されて、且つ前記第1開口と連結され、前記第1スカート構造と前記第1開口との連結部に溝構造が形成され、前記溝構造は前記第1スカート構造の外側に位置されることを特徴とするシリコンウェーハ吸着装置。
IPC (3件):
H01L 21/677
, B65G 49/07
, B25J 15/06
FI (3件):
H01L21/68 B
, B65G49/07 G
, B25J15/06 A
Fターム (12件):
3C707FS01
, 3C707FT02
, 3C707FT11
, 3C707NS13
, 5F131AA02
, 5F131CA07
, 5F131DA42
, 5F131DB02
, 5F131DB22
, 5F131DB25
, 5F131DB32
, 5F131DB34
引用特許:
審査官引用 (9件)
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吸着ペン
公報種別:公開公報
出願番号:特願平11-291081
出願人:熊本日本電気株式会社
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基板吸着部材および装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平8-242141
出願人:オリンパス光学工業株式会社
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板材搬送用吸着パッド構造
公報種別:公開公報
出願番号:特願2002-027413
出願人:中村留精密工業株式会社
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