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J-GLOBAL ID:200901020363599523   Update date: Oct. 01, 2022

Akiyama Kensuke

アキヤマ ケンスケ | Akiyama Kensuke
Affiliation and department:
Job title: Graduate student(doctorate program)
Other affiliations (1):
Homepage URL  (1): https://www.kanagawa-iri.jp/
Research field  (3): Inorganic materials ,  Catalytic processes and resource chemistry ,  Crystal engineering
Research keywords  (7): シリコンフォトニクス ,  太陽電池 ,  赤外受光素子 ,  Photocatalyst ,  Chemical Vapor Deposition ,  silicide ,  Solid-state devices
Papers (92):
MISC (28):
Patents (11):
Lectures and oral presentations  (134):
  • MOCVD合成したβ-FeSi<sub>2</sub>薄膜におけるエネルギーバンド変調
    (応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM) 2018)
  • 窒素(N)ドーピングした鉄シリサイドのPL発光特性
    (応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM) 2018)
  • PL発光強度増大化へのSi(111)基板上-FeSi<sub>2</sub>成長の低温度化検討
    (応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM) 2017)
  • β-FeSi<sub>2</sub>薄膜のPL発光特性に及ぼす成長温度の影響
    (応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM) 2017)
  • β-FeSi<sub>2</sub>/SiC複合粒子の作製と光触媒効果による水からの水素生成
    (応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM) 2016)
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Education (5):
  • 2001 - 2004 東京工業大学大学院 総合理工学研究科 物質科学創造専攻
  • 1991 - 1994 Tohoku University
  • - 1993 Tohoku University
  • 1987 - 1991 Tohoku University
  • - 1991 Tohoku University
Professional career (2):
  • Master of Engineering (Tohoku University)
  • 博士(工学) (東京工業大学)
Work history (6):
  • 2017 - 現在 Kanagawa Institute of Industrial Science and Technology
  • 2016 - 現在 Tokyo Institute of Technology School of Materials and Chemical Technology
  • 2017/04 - 2018/03 University of Yamanashi Faculty of Engineering
  • 2008/04 - 2017/03 Kanagawa Industrial Technology Center
  • 2014/04 - 2016/03 東京工業大学大学院 総合理工学研究科 特別研究員
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Awards (7):
  • 2013/09 - 第74回応用物理学会 講演奨励賞 AgコートSi基板上に成長させた-FeSi2薄膜の微細構造解析
  • 2006/07 - Student Presentation Award
  • 2006/03 - 第53回応用物理学開 講演奨励賞 β-FeSi2フォトニック結晶の作製(1) 反応性イオンエッチングの検討
  • 2003/11 - IUMRS-ICAM 2003, Material research Society Japan Young Scientist Award for Presentation of an Excellent Paper Optical and Electrical properties of β-FeSi2 thin film on insulating substrate
  • 2002/09 - 第63回応用物理学会 講演奨励賞 β-FeSi2初期層を用いたSi(100)及びSi(111)基板上へのβ-FeSi2薄膜のMOCVD合成
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Association Membership(s) (2):
日本化学学会 ,  応用物理学会
※ Researcher’s information displayed in J-GLOBAL is based on the information registered in researchmap. For details, see here.

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