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J-GLOBAL ID：200902118886740410   Reference number：01A0059384

Characterization of Oxide Films on SiC by Spectroscopic Ellipsometry.

分光偏光解析法によるSiC上の酸化物膜の特性評価

Author (8)： IIDA T (Saitama Univ., Saitama, JPN) ,  TOMIOKA Y (Saitama Univ., Saitama, JPN) ,  HIJIKATA Y (Saitama Univ., Saitama, JPN) ,  YAGUCHI H (Saitama Univ., Saitama, JPN) ,  YOSHIKAWA M (Japan Atomic Energy Res. Inst., Gunma, JPN) ,  ISHIDA Y (Electrotechnical Lab., Ibaraki, JPN) ,  OKUMURA H (Electrotechnical Lab., Ibaraki, JPN) ,  YOSHIDA S (Saitama Univ., Saitama, JPN)
Material： Japanese Journal of Applied Physics. Part 2. Letters  (Japanese Journal of Applied Physics. Part 2. Letters & Express Letters)
Volume： 39  Issue： 10B  Page： L1054-L1056  Publication year： Oct. 15, 2000 
JST Material Number： F0599B  ISSN： 0021-4922  Document type： Article
Article type： 短報  Country of issue： Japan (JPN)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： ellipsometry ,...

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JST classification (2)： Oxide thin films  (BK14050P) ,  Optical properties of condensed matter in general  (BM08010A)

Reference (15)：

• 1) V. V. Afanas’ev, M. Bassler, G. Pensl and M. J. Schulz: Phys. Status Solidi (a) 162 (1997) 312.
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• 3) K. Fukuda, S. Suzuki, T. Tanaka and K. Arai: Appl. Phys. Lett. 76 (2000) 1585.
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• 5) M. Yoshikawa, K. Saitoh, T. Ohshima, H. Itoh, I. Nashiyama, Y. Takahashi, K. Ohnishi, H. Okumura and S. Yoshida: Mater. Sci. Forum 264-268 (1998) 1017.

Terms in the title (4)： 分光偏光解析法 ,  SiC ,  酸化物膜 ,  特性評価