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J-GLOBAL ID：200902138891310475   Reference number：02A0616882

A Surface-Silylated Single-Layer Resist Using Chemical Amplification for Deep-UV and Vacuum-UV Lithography.

DUV及びVUVリソグラフィー用に化学増幅を用いた表面シリル化単一層レジスト

Author (5)： SUGITA K (Chiba Univ., Chiba, JPN) ,  YAMASHITA M (Chiba Univ., Chiba, JPN) ,  HARADA K (Chiba Univ., Chiba, JPN) ,  KUSHIDA M (Chiba Univ., Chiba, JPN) ,  SAITO K (Chiba Univ., Chiba, JPN)
Material： Journal of Photopolymer Science and Technology  (フォトポリマー懇話会誌)
Volume： 15  Issue： 3  Page： 367-370  Publication year： 2002 
JST Material Number： L0202A  ISSN： 0914-9244  CODEN： JSTEEW  Document type： Article
Article type： 短報  Country of issue： Japan (JPN)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： vacuum ultraviolet radiation ,...
Semi thesaurus term： ラインエッジ粗さ

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JST classification (3)： Manufacturing technology of solid-state devices  (NC03030V) ,  Reaction of polymers with low molecular weight compounds  (CG03020L) ,  Various photographies  (ZA03040M)

Reference (6)：

• 1) K. Sugita, M. Ikagawa, K. Harada, M. Kushida and K. Saito, Jpn. J. Appl. Phys. 39 (2000) 669.
• 2) K. Sugita, M. Ikagawa, Liew C. M., M. Yamashita, K. Harada, M. Kushida and K. Saito, J. Photopolym. Sci. Technol. 13 (2000) 535.
• 3) K. Sugita, M. Ikagawa, Liew C. M., M. Yamashita, K. Harada, M. Kushida and K. Saito, in "Forefront of Lithographic Materials Research" (Proc. Intern'l Conf. Photopolym. (McAfee, NJ, Oct.2000)), H. Ito, M. M. Khojasteh and W. Li Eds., Soc. Plastic Eng., Hopewell Junction, NY (2001) p.203.
• 4) K. Sugita, M. Yamashita, Liew C. M., K. Harada, M. Kushida and K. Saito, Jpn. J. Appl. Phys. 40 (2001) 6658.
• 5) S. Kishimura, M. Sasago, M. Shirai and M. Tsunooka, Jpn. J. Appl. Phys. 38 (1999) 7104.

Terms in the title (7)： VUV ,  リソグラフィー ,  化学 ,  増幅 ,  シリル化 ,  単一層 ,  レジスト