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J-GLOBAL ID：200902167709649683   Reference number：99A0609730

Recent advancements in 193 nm step and scan lithography.

193nmステップアンドスキャン(step and scan)リソグラフィーにおける最近の進歩

Author (7)： GOETHALS A M (IMEC, Leuven, BEL) ,  JAENEN P (IMEC, Leuven, BEL) ,  POLLERS I (IMEC, Leuven, BEL) ,  VAN ROEY F (IMEC, Leuven, BEL) ,  RONSE K (IMEC, Leuven, BEL) ,  HESKAMP B (ASML, Veldhoven, NLD) ,  DAVIES G (ASML, Veldhoven, NLD)
Material： Journal of Photopolymer Science and Technology  (フォトポリマー懇話会誌)
Volume： 12  Issue： 3  Page： 445-455  Publication year： 1999 
JST Material Number： L0202A  ISSN： 0914-9244  CODEN： JSTEEW  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： Japan (JPN)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： photomask ,...

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JST classification (1)： Manufacturing technology of solid-state devices  (NC03030V)

Reference (25)：

• 1) MA. Hartney, R.R. Kunz, D.J. Ehrlich, D.C. Shaver, Proc. SPIE, 1262 (1990) 119.
• 2) Yuko Kaimoto, Koji Nozaki, Sathoshi Takechi and Naomichi Abe, Proc. SPIE, 1672 (1992) 66.
• 3) R. Kunz, R. Allen, W. Hinsberg and G. Wallraff, Proc. SPIE, 1925 (1993) 167.
• 4) J. Stoeldraijer et al, "Advanced 193nm Step and Scan Technology", Fourth International Symposium on 193nm Lithography, Telfs Austria 1998.
• 5) J. Mulkens, J. Stoeldraijer, G. Davies, M. Dierichs, B. Heskamp, M. Moers, R. George, O. Roemp, H. Glatzel, C. Wagner, I. Pollers, P. Jaenen, to be published Proc. SPIE, 3679-46, (1999).

Terms in the title (2)： STEP ,  リソグラフィー