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J-GLOBAL ID：200902185337234617   Reference number：99A0938414

Designing a New Apparatus for Measuring Particle Sizer of Nanometer Order by Light-Scattering. (5th Report). Evaluation of the Surface by Measuring Particles on a Si Wafer before and after Cleaning.

光散乱法によるナノメータオーダの粒径測定法の開発 (第5報) Siウエハ表面に対する洗浄前後の微粒子測定による表面評価

Author (8)： AN HIROSHI (大阪電通大 工) ,  SASAKI SATOSHI (大阪電通大 大学院) ,  MORI YUZO (大阪大 大学院) ,  KATAOKA TOSHIYUKI (大阪大 大学院) ,  ENDO KATSUYOSHI (大阪大 大学院) ,  INOUE HARUYUKI (大阪大 大学院) ,  YAMAUCHI KAZUTO (大阪大 大学院) ,  TANIGUCHI HIROYUKI (日本分光)
Material： 精密工学会誌  (Journal of the Japan Society for Precision Engineering)
Volume： 65  Issue： 10  Page： 1435-1439  Publication year： Oct. 05, 1999 
JST Material Number： F0268A  ISSN： 0912-0289  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Thesaurus term： *wafer ,...
Semi thesaurus term： checker

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JST classification (1)： Materials of solid-state devices  (NC03020K)

Reference (6)：

• 森勇蔵. 光散乱法によるナノメーターオーダの粒径測定法の開発. 精密工学会誌. 1988, 54, 11, 2132
• 森勇蔵. 光散乱法によるナノメータオーダの粒径測定法の開発(第2報)-標シリコンウエハ付着微粒子の測定-. 精密工学会誌. 1990, 55, 10, 1847
• 森勇蔵. 光散乱法によるナノメータオーダの粒径測定法の開発(第3報)-標準微粒子による粒径測定法の評価-. 精密工学会誌. 1993, 59, 7, 1121
• AN, H. A New Apparatus for Measuring Particle Sizes of the Order of Nanometer, (2nd Report)-Evaluation of Measuring System by using Standard Particlesint. Int. J. JSPE. 1994, 28, 4, 356-361
• 安弘. 光散乱法によるナノメータオーダの粒径測定法の開発(第4報)-光電子増倍管出力特性の定式化とダイナミックレンジの改善法. 精密工学会誌. 1996, 62, 8, 1198

Terms in the title (9)： 光散乱法 ,  ナノメータ ,  オーダ ,  粒径測定 ,  開発 ,  Siウエハ ,  洗浄 ,  微粒子 ,  評価