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J-GLOBAL ID：200902206505123106   Reference number：08A0675528

Micro Channel Device composed by Dry Film Resist

ドライフィルムレジストから成るマイクロチャンネルデバイス

Author (3)： KAWAI Akira (Nagaoka Univ. Technol., Niigata, JPN) ,  TANAKA Daisuke (Nagaoka Univ. Technol., Niigata, JPN) ,  ARIGA Tomotaka (Nagaoka Univ. Technol., Niigata, JPN)
Material： Journal of Photopolymer Science and Technology  (フォトポリマー懇話会誌)
Volume： 21  Issue： 1  Page： 43-46  Publication year： 2008 
JST Material Number： L0202A  ISSN： 0914-9244  CODEN： JSTEEW  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： Japan (JPN)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： *photoresist ,  *channel ,  *solid state device ,  thin film ,  filter ,  fine particle ,  deionized water ,  surface energy ,  interfacial tension ,  aliphatic alcohol ,  *micro channel
Semi thesaurus term： *microdevice

JST classification (1)： Manufacturing technology of solid-state devices  (NC03030V)

Substance index (1)： Methanol

Reference (6)：

• A. Kawai, proc. SPIE, 3677(1999)565.
• Fan Y, Lafferty N, Bourov A, Zavyalova L, Smith BW., Proc. SPIE 5377,(2004)487.
• A. Kawai, J. Photopolymer Sci. Technol.18(2005)349.
• H. Endo, A. Kawai, J. Photopolymer Sci. Technol.17(2004)713.
• F. M. Fowkes, Ind Eng. Chem.56(1964)40.

Terms in the title (2)： ドライフィルムレジスト ,  マイクロチャンネル