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J-GLOBAL ID：200902271723168010   Reference number：05A1021594

Study on Laser Patterning on Single Crystalline Silicon

単結晶シリコン表面のレーザパターニング

Author (2)： HOSONO TAKASHI (東京工大 大学院) ,  TOKURA HITOSHI (東京工大 大学院)
Material： 精密工学会誌  (Journal of the Japan Society for Precision Engineering)
Volume： 71  Issue： 6  Page： 729-733  Publication year： Jun. 05, 2005 
JST Material Number： F0268A  ISSN： 0912-0289  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Thesaurus term： Argon ,...

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JST classification (1)： Manufacturing technology of solid-state devices  (NC03030V)

Reference (6)：

• 三宅正二郎. 原子間力顕微鏡 (AFM) によるシリコンのマイクロ隆起加工. 精密工学会誌. 1999, 65, 12, 1788
• 陳利益. 摩擦力顕微鏡機構による極微細加工とアルカリエッチングを併用した単結晶シリコンへのマスクレスパターン形成. 精密工学会誌. 2000, 66, 11, 1807
• OLSEN, J. E. Infrared spectroscopy of thin silicon dioxide on silicon. Appl. Phys. Lett. 1988, 53, 20, 1934
• WOLF, I. D. Micro-Raman spectroscopy to study local mechanical stress in silicon integrated circuits. Semicond. Sci. Technol. 1996, 11, 2, 139
• DAGATA, J. A. Modification of hydrogen-passivated silicon by a scanning tunneling microscope operating in air. Appl. Phys. Lett. 1990, 56, 20, 2001

Terms in the title (2)： 単結晶シリコン ,  レーザパターニング